Vertaling van "method of processing a substrate" in Frans
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procédé de traitement de substrat
invention concerne un procédé de traitement d'un substrat
in one aspect, the invention is a method of processing a substrate comprising
A system and method of processing a substrate including loading a substrate into a plasma chamber and setting a pressure of the plasma chamber to a pre-determined pressure set point.
Le procédé consiste à charger le substrat dans une chambre de plasma et à régler une pression de la chambre de plasma à un point de pression fixe.
In some embodiments, a method of processing a substrate may include providing a substrate to a process chamber comprising a dielectric layer having a feature formed therein.
Dans certains modes de réalisation, un procédé de traitement d'un substrat peut comprendre la fourniture d'un substrat à une chambre de traitement comprenant une couche diélectrique ayant une caractéristique formée sur celle-ci.
A method of processing a substrate in a plasma processing system includes removing particles in a chamber of the plasma processing system by supplying purge gas through at least one gas injection passage in communication with the chamber.
Un procédé de traitement d'un substrat dans un système de traitement au plasma consiste à enlever les particules dans une chambre dudit système par l'amenée de gaz de purge dans au moins un passage d'injection de gaz communiquant avec la chambre.
A method of processing a substrate having apertures formed in a first surface thereof includes depositing material on the first surface in the apertures and reflowing the material by heating a second surface of the substrate opposite the first surface.
Un procédé de traitement d'un substrat possédant des ouvertures formées dans une première surface de celui-ci consiste à déposer le matériau sur la première surface dans les ouvertures et à refondre le matériau par le chauffage d'une seconde surface du substrat opposée à la première surface.
a method of processing a substrate utilizing the improved substrate holder reduces arcing between the edge of the substrate and the focus ring.
procédé de traitement d'un substrat mettant en application ce support de substrat amélioré et permettant de diminuer le phénomène d'arc entre le bord du substrat et la bague de centrage
a method of processing a substrate having a conductive material layer disposed thereon is provided which includes positioning the substrate in a process apparatus and supplying a first polishing composition between to the substrate
l'invention concerne un procédé de traitement d'un substrat ayant une couche de matière conductrice dessus et consistant à placer le substrat dans un appareil de traitement et à fournir une première composition de polissage entre le substrat
a processing method of processing a substrate is presented that includes: receiving pre-process data, wherein the pre-process data comprises a desired process result and actual measured data for the substrate
the invention can provide a method of processing a substrate using gate-optimization processing sequences and evaluation libraries that can include gate-etch procedures, COR-etch procedures, and evaluation procedures
l'invention concerne un procédé de traitement d'un substrat utilisant des séquences de traitement d'optimisation de grille et des ensembles d'évaluations qui peuvent comprendre des procédures de gravure de grille, des procédures de gravure par COR et des procédures d'évaluation.
the invention provides a method of processing a substrate using double-patterning processing sequences and electric-field enhanced layers (e-FELs)
l'invention concerne un procédé de traitement d'un substrat à l'aide de séquences de traitement par double-modelage et de couches améliorées par un champ électrique (e-FEL)
PROCESSING ARRANGEMENT WITH TEMPERATURE CONDITIONING ARRANGEMENT AND METHOD OF PROCESSING A SUBSTRATE
AGENCEMENT DE TRAITEMENT AVEC AGENCEMENT DE COMMANDE DE LA TEMPÉRATURE ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT D'UN SUBSTRAT
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