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methods may include forming
Vertaling van "methods may include forming" in Frans
procédés peuvent comprendre la formation
procédés peuvent consister à former
those methods may include forming a first block on a nanodot material
ces procédés peuvent comprendre la formation d'un premier bloc sur un matériau de nanopoint
Such methods may include forming a mixture of the at least one metal salt and a plurality of grains of hard material and sintering the mixture to form a hard polycrystalline material.
De tels procédés peuvent comprendre la formation d'un mélange du ou des sels métalliques et d'une pluralité de grains de matériau dur et le frittage du mélange pour former un matériau polycristallin dur.
those methods may include forming a GaSb nucleation layer on a substrate, forming a ga
ces procédés peuvent consister à former: une couche de nucléation GaSb sur un substrat; une couche tampon ga
Embodiments of those methods may include forming an electrochemical capacitor device by forming pores in low-purity silicon materials.
Des modes de réalisation de ces procédés peuvent inclure la formation d'un dispositif de condensateur électrochimique en formant des pores dans des matériaux de silicium à faible pureté.
The methods may include forming an optoelectronic cell while flat and wrapping the optoelectronic cell around a central axis.
Lesdits procédés peuvent comporter les étapes consistant à former une cellule optoélectronique à plat et à enrouler la cellule optoélectronique autour d'un axe central.
Embodiments of the methods may include forming a tape from a slurry including a substrate metal precursor, an anode active material, a pore-forming agent, a binder, and a solvent.
Les formes de réalisation des procédés peuvent comprendre l'étape consistant à former un ruban à partir d'une pâte contenant un précurseur métallique du substrat, un matériau actif d'anode, un agent de formation de pores, un liant et un solvant.
The methods may include forming the silicon oxide layer on the substrate in a reaction chamber by reacting an atomic oxygen precursor and a silicon precursor and depositing reaction products on the substrate.
Les procédés peuvent comprendre la formation d'une couche d'oxyde de silicium sur le substrat dans une chambre réactionnelle par réaction d'un précurseur d'oxygène atomique et d'un précurseur de silicium et par dépôt des produits de la réaction sur le substrat.
those methods may include forming a first layer of magnetic material and at least one via structure disposed in a first dielectric layer
ces procédés peuvent comprendre les opérations consistant à former une première couche de matériau magnétique et au moins une structure de trous d'interconnexion disposée dans une première couche diélectrique
Methods may include forming a film from fused all-inorganic colloidal nanostructures, where the nanostructures may include inorganic nanoparticles and functional inorganic ligands, and the fused nanostructures may form an electrical network that is photoconductive.
Des procédés peuvent consister à former un film à partir de nanostructures colloïdales totalement inorganiques fusionnées, les nanostructures pouvant comprendre des nanoparticules inorganiques et des ligands inorganiques fonctionnels, et les nanostructures fusionnées pouvant former un réseau électrique qui est photoconducteur.
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