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modifier une surface
modification d'une surface
modifier la surface
modification de la surface
The compositions include working liquids useful in modifying a surface of a wafer suited for fabrication of a semiconductor device.
Les compositions comprennent des liquides de travail utiles pour modifier une surface d'une tranche adaptée à la fabrication d'un dispositif semi-conducteur.
apparatus and method for investigating or modifying a surface with beam of charged particles
appareil et procédé permettant d'analyser ou de modifier une surface au moyen d'un faisceau de particules chargées
method of modifying a surface of polymer membrane by ion assisted reaction
A process for modifying a surface of a substrate is provided that includes supplying electrons to an electrically isolated anode electrode of a closed drift ion source.
L'invention porte sur un procédé de modification d'une surface d'un substrat qui comprend la fourniture d'électrons à une électrode d'anode électriquement isolée d'une source d'ions à dérive fermée.
The invention relates to a method for modifying a surface of injection-moulded, extruded or pressed polymeric substrates comprising silicone rubbers.
L'invention concerne un procédé pour modifier la surface de substrats polymères moulés par injection, extrusion ou compression, ces substrats contenant des caoutchoucs de silicone.
an abrasive construction for modifying a surface of a workpiece, such as a semiconductor wafer
une construction abrasive pour modifier la surface d'une pièce, telle qu'une plaquette de semiconducteurs
a composition for modifying a surface of a substrate, the composition comprising
une composition destinée à modifier une surface d'un substrat, la composition comprenant
A method for modifying a surface by generating nanotubes at one or more selected sites on the surface, the surface including a first metal.
Cette invention concerne un procédé pour modifier une surface par génération de nanotubes à un ou plusieurs endroits sélectionnés sur la surface, la surface comprenant un premier métal.
a multi-layered polishing pad for modifying a surface of a workpiece, such as a semiconductor wafer
un tampon de polissage multicouche utilisé pour modifier une surface d'un élément à travailler, tel qu'une tranche de semi-conducteur
The present invention provides a method for modifying a surface of a polymer derived from a mixture comprising a thiol monomer and an olefinic monomer.
L'invention concerne un procédé permettant de modifier la surface d'un polymère obtenu à partir d'un mélange comprenant un monomère thiol et un monomère oléfinique.
A process for modifying a surface of a cast polycrystalline silicon sheet to decrease the light reflectance of the cast polycrystalline sheet is disclosed.
L'invention concerne un traitement de modification d'une surface d'une feuille de silicium polycristallin obtenue par coulée pour diminuer la réflexion de lumière de la feuille polycristalline obtenue par coulée.
Provided are several polishing compositions useful for modifying a surface, such as a semiconductor wafer suitable for fabrication of a semiconductor device, especially when used in fixed abrasive planarization techniques.
L'invention concerne plusieurs compositions de polissage utiles pour la modification d'une surface, telle qu'une plaque de semi-conducteur adaptée à la fabrication d'un dispositif de semi-conducteur, notamment pour une utilisation dans des techniques abrasives fixes d'aplanissement.
the inventive method is useful as a safe and environmentally friendly means of modifying a surface of a variety of biomedical, nanotechnological, and biotechnological devices or articles.
la méthode de l'invention est un moyen sûr et respectueux de l'environnement pour modifier la surface de divers dispositifs et articles utilisés dans le domaine de la biomédecine, des nanotechnologies et des biotechnologies.
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