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n-type base layer

Vertaling van "n-type base layer" in Frans

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couche de base de type n
A mesa-shaped p-type anode emitter layer is formed in the central region of the n-type base layer.
Une couche d'émetteur d'anode de type p de forme mesa est formée dans la zone centrale de la couche de base de type n.
In certain embodiments, the second doped p-type region may extend to the edges of the wafer's n-type base layer.
Selon certains modes de réalisation, la seconde région dopée de type P peut s'étendre vers les bords de la couche de base de type N de la tranche.
The second n-type base layer penetrates a second deficient section arranged on a high-concentration gate layer and a low-concentration p-type deposition layer formed thereon, and reaches an n-type drift layer of the second deficient section.
La seconde couche de base de type n pénètre dans une seconde section déficiente placée sur une couche de grille à forte concentration et une couche de dépôt de type p à faible concentration par-dessus et atteint une couche de déplacement de type n de la seconde section déficiente.
the n - type base layer has an n type impurity at a concentration lower than that in the n-type base layer
la couche de base de type n - a une impureté de type n en une concentration inférieure à celle présente dans la couche de base de type n
a p-type high-resistance layer and an n-type base layer are sequentially epitaxial-grown on a p-type SiC substrate
une couche à haute résistance de type p et une couche de base de type n sont produites en séquence par croissance épitaxiale sur un substrat SiC de type p
A second n-type base layer is formed on the built-in Shottky diode region by converting (inverting) the p-type deposition layer into n-type by n-type impurity ion implantation from the surface.
Une seconde couche de base de type n est formée sur la région de diode de Schottky intégrée en convertissant (inversant) la couche de dépôt de type p en type n par une implantation d'ions à impuretés de type n depuis la surface.
A low on-resistance Shottky diode constituted with a source electrode connected by forming a Schottky barrier is incorporated in a surface exposed portion of the second n-type base layer.
Une diode de Schottky à faible résistance constituée d'une électrode source reliée en formant une barrière de Schottky est incorporée dans une partie exposée de surface de la seconde couche de base de type n.
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Afbeelding van de dag
oven mitt: protective glove for handling hot items
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