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nm in thickness
Vertaling van "nm in thickness" in Frans
nm d'épaisseur
The oxygen-containing insulation film is up to 0.4 nm in thickness, and a high- dielectric film is formed on the surface-nitrided insulation film.
Ledit film isolant qui contient de l'oxygène peut atteindre 0,4 nm d'épaisseur et un film hautement diélectrique est formé sur le film isolant à surface nitrurée.
a resist film formed by using the chemically amplified positive resist composition has an absorbance of 0.08 or greater per 100 nm in thickness as measured at a wavelength of an exposure light source used in the thermal lithography.
un film de réserve préparé en utilisant la composition de réserve positive amplifiée chimiquement présente une absorbance de 0,08 ou plus pour 100 nm d'épaisseur, telle que mesurée à la longueur d'onde d'une source de lumière d'exposition utilisée en lithographie thermique.
Glass microbubbles having an inorganic thin-film coating not exceeding about 10 nm in thickness, especially a coating of a metal, a metalloid, or a alloy thereof.
Microbulles de verre comprenant un enrobage à film mince inorganique n'excédant pas environ 10 nm d'épaisseur, en particulier un enrobage d'un métal, d'un métalloïde ou d'un alliage dudit métal.
Disclosed is a thin film-like PZT layer (80-300 nm in thickness) which combines both a good leakage property and a good hysteresis property.
La présente invention concerne une couche PZT semblable à un film mince (de 80 à 300 nm d'épaisseur) qui combine de bonnes propriétés de fuite et d'hystérésis.
The selective oxidation layer is at least 25 nm in thickness.
La couche d'oxydation sélective présente une épaisseur d'au moins 25 nm.
The protection layer is preferably less than 100 nm in thickness.
La couche de protection a de préférence une épaisseur inférieure à 100 nm.
Thereafter, the composite is mechanically reduced so that the two zones are each less than about 1,000 nm in thickness.
Le composite subit ultérieurement une réduction mécanique, de sorte que les deux zones présentent chacune une épaisseur inférieure à 1000 nm environ.
At least three subsequent layers of the same material are deposited on the substrate (6a, 6b), each layer being at most 20 nm in thickness.
Au moins trois couches consécutives du même matériau sont déposées sur le substrat (6a, 6b), chaque couche ayant une épaisseur inférieure ou égale à 20 nm.
in one example, the insulating layer is a silicon dioxide (oxide) layer that is typically less than 10 nm in thickness.
dans un exemple, la couche isolante est une couche de dioxyde (oxyde) de silicium, qui présente généralement une épaisseur inférieure à 10 nm.
a method of making multilayer electronic devices, such as capacitors and varistors, is provided, wherein nanosized particles are assembled into a densely packed thin film on a dielectric substrate, and then sintered to form an electrode less than about 700 nm in thickness.
l'invention concerne la fabrication de dispositifs électroniques tels que les condensateurs ou les varistors. des particules à nano-échelle sont assemblées sur un film mince regroupé de façon dense sur un substrat diélectrique puis frittées pour former une électrode ayant une épaisseur de moins de 700 nm.
Between 7 and 14 days after anthesis, the outer cuticle assumes a highly reticulate appearance in section and is delineated on the outside by a cutin layer, 90-120 nm in thickness.
Entre le 7ième et le 14ième jour après l'anthèse, la cuticule externe prend une apparence fortement réticulée en coupe et est délimitée à l'extérieur par une couche de cutine épaisse de 90-120 nm.
These problems are expected to be avoided by coating particles of one or more of the phosphors, such as using atomic layer deposition in which the coating is not more than 500 nm in thickness.
Ces problèmes devraient pouvoir être évités par l'application d'un revêtement sur les particules d'un ou de plusieurs des luminophores, telle que l'utilisation d'un dépôt de couche atomique, l'épaisseur du revêtement ne dépassant pas 500 nm.
The barrier layer (14) is characterized in that it is formed by three subsequent depositions of inorganic layers on the substrate (6a, 6b), each layer being at most 150 nm in thickness.
Ladite couche barrière (14) est caractérisée en ce qu'elle est formée par trois dépôts consécutifs de couches inorganiques sur le substrat (6a, 6b), chaque couche ayant une épaisseur inférieure ou égale à 150 nm.
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Synoniemen voor nm in thickness in het Engels
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