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of the patterning device
Vertaling van "of the patterning device" in Frans
du dispositif de structuration
du dispositif de modélisation
of the patterning device to at least one second force
du dispositif de formation de motifs à au moins une deuxième force
The patterning device may be configured for creating a patterned radiation beam from a radiation beam incident on a major surface of the patterning device.
Le dispositif de structuration peut être conçu pour créer un faisceau d'irradiation conçu à partir d'un faisceau d'irradiation incident sur une surface majeure du dispositif de structuration.
The intrafield correction includes corrective variations of one or more properties of the projection system, and optionally out-of-plane movements of the patterning device and/or substrate table.
La correction intra-champ comprend des variations de correction d'une ou plusieurs propriétés du système de projection, et, facultativement, des mouvements hors du plan du dispositif de réalisation de motifs et/ou de la table de substrat.
In one embodiment, a lithographic apparatus that uses a patterning device to expose a substrate (W) comprises a position determining system that is operative to determine a relative position of the patterning device with respect to a predetermined reference frame.
Dans un mode de réalisation, un appareil lithographique qui utilise un dispositif de structuration pour exposer un substrat (W) comprend un système de détermination de position, fonctionnant pour déterminer une position relative du dispositif de structuration par rapport à un cadre de référence prédéfini.
The movable component can include a gas inlet (1108) for supplying a gas flow across a surface of the patterning device and a gas outlet (1110) for extracting the gas flow.
Le composant mobile peut comprendre une entrée de gaz (1108) pour l'apport d'un flux de gaz sur toute une surface du dispositif de formation de motif et une sortie de gaz (1110) pour l'extraction du flux de gaz.
the additional beam of radiation (IL') is imparted in its cross-section with an additional pattern based on the pattern of the patterning device and on lithographic projection apparatus property data
le faisceau de rayonnement supplémentaire (IL') se voit conférer dans sa section transversale un motif supplémentaire sur la base du motif du dispositif de génération de motif et des données de propriété d'appareil de projection lithographique
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