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of the repeating pattern
Vertaling van "of the repeating pattern" in Frans
du motif répété
du motif répétitif
Portions of the repeating pattern are then removed to form a second mask from the first mask.
Des parties du motif répété sont ensuite éliminées pour donner un second masque à partir dudit premier masque.
The individually addressable channels are controlled to image the repeating pattern of features and the pitch of the repeating pattern of features is adjusted to equal substantially the pitch of the repeating patterns of sub-regions.
Les canaux individuellement adressables sont commandés pour imager le motif répété de caractéristiques ; le pas du motif répété de caractéristiques est ajusté pour égaler sensiblement le pas des motifs répétés des sous-régions.
each period of the repeating pattern is sampled at least twice
chaque période du motif répétitif est échantillonné au moins deux fois
has moved over a distance equivalent to a complete number of periods of the repeating pattern on the substrate
s'est déplacé sur une distance équivalente à un nombre complet de périodes du motif répétitif sur le substrat
which uses an optical measurement method capable of measuring three - dimensional pattern shapes to measure the parameters of the repeating pattern in the aforementioned first inspection area in the direction of repetition in which the lines and spaces are repeated
qui utilise un procédé de mesure optique capable de mesurer des formes de motif tridimensionnelles pour mesurer les paramètres du motif répété dans la première zone d'inspection susmentionnée dans la direction de répétition dans laquelle les lignes et les espaces sont répétés
the cells are aligned such that the first end wall of one cell from the repeating pattern abuts the second end wall of an adjacent cell of the repeating pattern to form a four-ply wall of the material
les cellules sont alignées de telle sorte que la première paroi d'extrémité d'une cellule provenant du motif répétitif vient en butée contre la seconde paroi d'extrémité d'une cellule adjacente du motif répétitif pour former une paroi à quatre plis du matériau
portions of the repeating pattern are then removed to form a second mask from the first mask. the patterning of the block copolymer-containing composition may utilize photolithography
des parties du motif répété sont ensuite éliminées pour donner un second masque à partir dudit premier masque. pour former un motif à partir de la composition contenant le copolymère séquencé, on peut avoir recours à la photolithographie
with the total period of the repeating pattern being t = t1 + t2
la durée totale du schéma de répétition étant t = t1 + t2
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