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matériau de formation de motifs
matériau de formation de motif
matériau de traçage de motif
Disclosed is a pattern-forming material which enables to efficiently form a defect-free, very fine pattern having both surface roughness following properties and high resolution.
L'invention porte sur un matériau de formation de motifs permettant de constituer de manière efficace un motif très fin, sans défaut, dont la rugosité de surface des deux côtés a d'excellentes propriétés et une haute définition.
Specifically disclosed is a pattern-forming material which is characterized by having a cushion layer and a photosensitive layer on a supporting body in this order.
L'invention porte en particulier sur un matériau de formation de motifs caractérisé par une couche d'amortissement et une couche photosensible sur un corps de support, dans cet ordre.
a method of forming a metallic pattern through the chemisorption of a metal; and a pattern-forming material and a crosslinking monomer which are used in the method
un procédé de formation d'un motif métallique par chimisorption d'un métal, ainsi qu'un matériau de formation de motif et un monomère de réticulation utilisés dans ledit procédé
THERMALLY REACTIVE RESIST MATERIAL, METHOD FOR PRODUCING MOLD, MOLD, DEVELOPING METHOD, AND PATTERN-FORMING MATERIAL
MATIÈRE DE RÉSIST THERMIQUEMENT RÉACTIVE, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN MOULE, MOULE, PROCÉDÉ DE DÉVELOPPEMENT ET MATÉRIAU DE FORMATION DE MOTIF
The pattern-forming material is further characterized in that the cushion layer has a total light reflectance of not less than 86% and a haze value of not more than 10%.
Le matériau de formation de motifs est en outre caractérisé en ce que la couche d'amortissement a une réflectance lumineuse totale supérieure ou égale à 86% et un voile ne dépassant pas 10%.
Also disclosed are a pattern-forming apparatus employing such a pattern-forming material and a pattern-forming method using such a pattern-forming material.
L'invention porte également sur un appareil de formation de motifs employant un tel matériau de formation de motifs et un procédé de formation de motifs utilisant un tel matériau de formation de motifs.
Disclosed is a pattern-forming material having high sensitivity and excellent developability, which enables to obtain a high-resolution, high-precision pattern.
La présente invention concerne un matériau de traçage de motif présentant une sensibilité élevée et une capacité de développement excellente, qui permet d'obtenir un motif de haute résolution et de haute précision.
Specifically disclosed is a pattern-forming material composed of a supporting body and at least a photosensitive layer formed on the supporting body.
L'invention concerne spécifiquement un matériau de traçage de motif composé d'un corps de support et d'au moins une couche photosensible disposée sur le corps de support.
The pattern-forming material is also characterized in that the shortest developing time for developing the photosensitive layer after exposure is 15-50 seconds.
Le matériau de traçage de motif est également caractérisé en ce que le temps de développement le plus court pour développer la couche photosensible après exposition est de 15-50 secondes.
The compositions comprise a blend of a thermoplastic pattern-forming material and from about 5 to about 70 % by weight of an aqueous gel that is substantially uniformly dispersed throughout the thermoplastic pattern-forming composition.
Les compositions comprennent un mélange composé d'un matériau thermoplastique servant à former des modèles et d'environ 5 à environ 70 % en poids de gel aqueux, dispersé de manière sensiblement uniforme dans la composition thermoplastique servant à former des modèles.
Laser-decomposable resin composition and laser-decomposable pattern-forming material and flexographic printing plate precursor of laser engraving type using the same
Composition de résine décomposable au laser et matériau de formation de motif décomposable au laser l'utilisant et précurseur de plaque d'impression flexographique de type gravure au laser l'utilisant
This pattern-forming material is characterized in that the photosensitive layer contains at least a binder, a polymerizable compound and a photopolymerization initiator, and has a sensitivity of 20 mJ/cm2 or less.
Ce matériau de traçage de motif est caractérisé en ce que la couche photosensible contient au moins un liant, un composé polymérisable et un initiateur de photopolymérisation, et présente une sensibilité inférieure ou égale à 20 mJ/cm2.
BASE-GENERATING AGENT, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN-FORMING MATERIAL COMPRISING THE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMATION METHOD USING THE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND ARTICLE
AGENT GÉNÉRATEUR DE BASE, COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, MATÉRIAU FORMANT MOTIFS CONTENANT LA COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS AU MOYEN DE LA COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, ET ARTICLE
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Synoniemen voor pattern-forming material in het Engels