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matière source de plasma
matériau source de plasma
matière à source de plasma
The supply reservoir may comprise a solid form of the plasma source material used to periodically form from a portion of the material in solid form the material in liquid form.
Le réservoir d'alimentation peut comprendre une forme solide de matière source de plasma utilisé pour se former en matière à l'état liquide à partir d'une partie de matière à l'état solide.
The apparatus and method may comprise a part of an EUV production subsystem with an optical element to be etched of plasma source material.
L'appareil et le procédé peuvent comprendre une partie d'un sous-système de production EUV avec un élément optique à graver de matière source de plasma.
The etchant source material may be selected based upon the etching being stimulated in the presence of photons of EUV light and/or DUV light and/or any excited energetic photons with sufficient energy to stimulate the etching of the plasma source material.
La matière source d'agent de gravure peut être sélectionnée de façon que la gravure soit stimulée en présence de photons des rayons EUV et/ou DUV et/ou n'importe quel type de photons énergétiques excités avec une énergie suffisante pour stimuler la gravure de la matière source de plasma.
transferring liquid plasma source material from the supply reservoir to the droplet generator plasma source material reservoir, while the droplet generator is on line
chargé de transférer la matière source de plasma du réservoir d'alimentation au réservoir de matière source de plasma du générateur de gouttelettes, lorsque le générateur de gouttelettes est en ligne
The replacement material may comprise a material not susceptible to being etched by an etching material used to remove deposited plasma source material from the collector, e.g., a halogen etchant.
Le matériau de remplacement peut comprendre un matériau non sensible aux attaques chimiques d'un matériau d'attaque chimique utilisé dans la dépose du matériau source de plasma déposé par rapport au collecteur, par exemple un produit d'attaque chimique halogène.
a target droplet formation mechanism comprising a magneto-restrictive or electro-restrictive material, a liquid plasma source material passageway terminating in an output orifice
un mécanisme de formation de gouttelettes cibles comprenant un matériau magnéto-restrictif ou électro-restrictif, un passage de matériau de source plasma liquide se terminant dans un orifice de sortie
The apparatus and method may further comprise a droplet detection mechanism that may comprise a droplet detection radiation detector positioned to detect droplet detection radiation reflected from a plasma source material droplet.
Le procédé et l'appareil de l'invention peuvent comprendre un mécanisme de détection de gouttelettes constitué d'un détecteur de rayonnement positionné de façon à détecter le rayonnement de la détection des gouttelettes renvoyé par une gouttelette de matière à source de plasma.
The replacement material may comprise a material that is essentially transparent to light in a selected band of EUV light, e.g., a spectrum of EUV light generated in a plasma of a plasma source material.
Le matériau de remplacement peut comporter un matériau essentiellement transparent à la lumière dans une bande sélectionnée de lumière EUV, par exemple un spectre de lumière EUV générée dans le plasma d'un matériau source de plasma.
an EUV light generation system and method is disclosed that may comprise a droplet generator producing plasma source material target droplets traveling toward the vicinity of a plasma source material target irradiation site
l'invention concerne un procédé et un système de génération de lumière ultraviolette extrême, ce système pouvant comprendre un générateur de gouttelettes produisant des gouttelettes cibles à source de plasma se déplaçant dans la proximité d'un site d'irradiation des cibles de matière à source de plasma
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