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chambre de traitement au moyen
chambre de traitement utilisant
chambre de processus à l'aide
delivering the first wafer for processing to a process chamber using the second arm
the invention relates to a device for depositing especially, crystalline layers onto one or more, especially, also crystalline substrates in a process chamber using reaction gases which are guided into said process chamber, where they undergo pyrolytic reaction
l'invention concerne un dispositif permettant de déposer des couches, en particulier cristallines, sur un ou plusieurs substrats, en particulier également cristallins, dans une chambre de traitement au moyen de gaz réactants introduits et réagissant par pyrolyse dans la chambre de traitement
which is formed by introducing a microwave into the process chamber using a multi-slotted planar antenna
formé par introduction d'une micro-onde dans la chambre de processus à l'aide d'une antenne plane à fentes rayonnantes multiples
The present invention relates to monitoring chemicals in a process chamber using a spectrometer having a plasma generator, based on patterns over time of chemical consumption.
L'invention concerne la surveillance des produits chimiques dans une chambre de traitement, au moyen d'un spectromètre possédant un générateur de plasma, en fonction de modèles de consommation de produits chimiques dans le temps.
The resonator subsystem can be coupled to a process chamber using one or more interface subsystems and can comprise one or more resonant cavities, and each resonant cavity can have a plurality of plasma tuning rods coupled thereto.
Le sous-système de résonateur peut être couplé à une chambre de traitement à l'aide d'un ou plusieurs sous-systèmes d'interface et peut comporter une ou plusieurs cavités résonantes, chaque cavité résonante pouvant être dotée d'une pluralité de barreaux d'accord de plasma couplés à celle-ci.
methods and apparatus for cleaning a process chamber using a fluorine gas, wherein the fluorine gas is at least partially recycled for further use in the cleaning cycle
des procédés et un appareil permettant de nettoyer une chambre de processus à l'aide d'un gaz fluoré. le gaz fluoré est au moins partiellement recyclé en vue d'une nouvelle utilisation dans le cycle de nettoyage
Methods and systems are provided for processing a film over a substrate in a process chamber using plasma deposition.
L'invention concerne des procédés et des systèmes permettant de traiter un film sur un substrat dans une chambre de traitement, par dépôt en phase vapeur activé par plasma.
A method involving plasma cleaning of deposit residues in process chamber using duo-step wafer-less auto clean method is detailed.
Cette invention détaille un procédé pour nettoyer au plasma des résidus de dépôt d'une chambre de traitement à l'aide d'une technique d'autonettoyage sans plaquette en deux étapes.
Embodiments of the present disclosure include methods and apparatus for plasma processing in a process chamber using an RF power supply coupled to the process chamber via a matching network.
L'invention concerne des procédés et des appareils pour un traitement plasma dans une chambre de traitement utilisant une source d'alimentation RF couplée à la chambre de traitement via un réseau concordant.
METHODS OF AND APPARATUS FOR ACCESSING A PROCESS CHAMBER USING A DUAL ZONE GAS INJECTOR WTH IMPROVED OPTICAL ACCESS
PROCÉDÉS CONSISTANT À ET APPAREIL POUR ACCÉDER À UNE CHAMBRE DE TRAITEMENT UTILISANT UN INJECTEUR DE GAZ À DEUX ZONES AVEC ACCÈS OPTIQUE OPTIMISÉ
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Synoniemen voor process chamber using in het Engels