Vertaling van "processing of semiconductor substrates" in Frans
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traitement de substrats semi-conducteurs
The support frame can include a continuous upper portion and a segmented lower portion which allows thermal stresses to be accommodated during processing of semiconductor substrates in the plasma chamber.
Le cadre support peut comporter une partie supérieure continue et une partie inférieure segmentée qui permettent aux contraintes thermiques d'être contenues au cours du traitement de substrats semi-conducteurs dans la chambre à plasma.
Methods and apparatus for radiation processing of semiconductor substrates using microwave or millimeter wave energy are provided.
L'invention concerne des procédés et un appareil de traitement de substrats semi-conducteurs au moyen d'un rayonnement en utilisant l'énergie des micro-ondes ou des ondes millimétriques.
bi-directional processing chamber and method for bi-directional processing of semiconductor substrates
During processing of semiconductor substrates, particle contamination can be minimized by the ceramic part as a result of the plasma conditioning treatment.
Embodiments of the invention generally relate to apparatus and methods of thermal processing of semiconductor substrates using a pellicle to eliminate contamination of an aperture member.
Selon des modes de réalisation, la présente invention concerne de manière générale un appareil et des procédés de traitement thermique de substrats de semi-conducteur qui utilisent une pellicule afin d'éliminer la contamination d'un élément d'interstice.
a baffle plate of a showerhead gas distribution system and method of using the baffle plate wherein the baffle plate is effective for reducing particle and/or metal contamination during processing of semiconductor substrates such as silicon wafers
un déflecteur d'un système de distribution de gaz à pomme d'arrosoir ainsi qu'un procédé d'utilisation du déflecteur, celle-ci servant à réduire la contamination par particules et/ou métaux pendant la production de substrats de semi-conducteur tels que des tranches de silicium
silicon carbide components of a plasma processing apparatus, methods of making the components, and methods of using the components during processing of semiconductor substrates to provide for reduced particle contamination of the substrates are provided
des composants en carbure de silicium d'un appareil de traitement au plasma, des procédés de fabrication des composants, ainsi que des procédés d'utilisation des composants au cours du traitement de substrats à semi-conducteurs afin d'obtenir une contamination des substrats par des particules réduite
COMPOSITIONS FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATES
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