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semiconductor structures comprising
Vertaling van "semiconductor structures comprising" in Frans
structures semi-conductrices comprenant
structures de semi-conducteurs comprenant
in particular the invention relates to gate electrodes and the formation of precision layers in semiconductor structures comprising a substrate and an elongated structure essentially standing up from the substrate
en particulier, l'invention concerne des électrodes de grille et la formation de couches de précision dans des structures semi-conductrices comprenant un substrat et une structure allongée, s'étendant sensiblement à partir du substrat
Described herein are semiconductor structures comprising laterally varying II-VI alloy layer formed over a surface of a substrate.
La présente invention a trait à des structures semi-conductrices comprenant une couche d'alliage II-VI variant latéralement, formée sur une surface d'un substrat.
Semiconductor structures comprising the above dielectric layer are also provided.
L'invention concerne aussi des structures semi-conductrices comprenant la couche diélectrique décrite.
A method of fabricating semiconductor structures comprising sub-resolution alignment marks is disclosed.
La présente invention concerne un procédé de fabrication de structures de semi-conducteurs comprenant des repères d'alignement en infra-résolution.
described herein are semiconductor structures comprising a si substrate
l'invention concerne des structures de semi-conducteurs comprenant: un un substrat si
Methods for forming semiconductor structures comprising a layer transferred from a donor substrate are provided in which the resulting structure has improved quality with respect of defects, and resulting structures therefrom.
La présente invention concerne des procédés pour former des structures à semi-conducteur qui comprennent une couche transférée à partir d'un substrat donneur dans lesquels la structure résultante possède une qualité optimisée en ce qui concerne les défauts, et des structures résultantes de ceux-ci.
method for making semiconductor structures comprising the steps:-forming a virtual substrate on a silicon substrate with a graded si1-xGex layer and a non-graded si1-xGex layer, using a high-density, low-energy plasma enhanced chemical vapor deposition
un procédé de fabrication de structures semi-conductrices, qui consiste à former un substrat virtuel sur un substrat en silicium avec une couche calibrée si1-xGex et une couche non calibrée si1-xGex par dépôt chimique en phase vapeur activé par plasma haute densité à faible énergie
The present invention also provides novel semiconductor structures comprising silicon substrates, an SiGe buffer layer, an SiGeSn template layer, and an SiGe, Ge, Group III-V, or Group II- VI active layer.
La présente invention concerne également de nouvelles structures à semi-conducteur comprenant des substrats en silicium, une couche tampon SiGe, une couche modèle SiGeSn ainsi qu'une couche active SiGe, Ge, d'un groupe III-V, ou d'un groupe II- VI.
Synoniemen voor semiconductor structures comprising in het Engels
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Resultaten: 8. Exact: 8. Verstreken tijd: 46 ms.
