We konden deze vermelding niet vinden. Er worden benaderende resultaten weergegeven. Controleer je spelling of stel voor deze term aan het woordenboek toe te voegen.
The buffer layer is formed by a sputtering method using a sputtering apparatus having a swinging type magnetron magnetic circuit.
La couche tampon est obtenue par un procédé de pulvérisation au moyen d'un appareil de pulvérisation comportant un circuit magnétique oscillant de type magnétron.
The insulating layer containing a boron element or an aluminum element is formed by a sputtering method using a silicon target or a silicon oxide target containing a boron element or an aluminum element.
La couche isolante contenant un élément bore ou un élément aluminium est formée par un procédé de pulvérisation utilisant une cible de silicium ou une cible d'oxyde de silicium contenant un élément bore ou un élément aluminium.
A thin film of a compound having a wurtzrite structure which is produced by the use of a reactive sputtering method using a metal material as a target and a nitrogen or oxygen gas as a reactive gas.
La présente invention concerne un film mince d'un composé possédant une structure wurtzrite qui est produit par un procédé de pulvérisation réactive utilisant un matériau métallique comme cible et un gaz azote ou oxygène comme gaz réactif.
metal supply layer is formed by a sputtering method using a semi-conductive or conductive target that includes one or more types of alkali metals and/or alkali earth metals
est formée par un procédé de pulvérisation utilisant une cible conductrice ou semi-conductrice qui comprend un ou plusieurs types de métaux alcalins et/ou de métaux alcalino-terreux
wherein a first protective layer is formed by the sputtering method using a target of a mixture containing ZnS and SiO2 without adding o2 gas and h2 gas to the sputtering atmosphere
une première couche protectrice est formée par procédé de pulvérisation au moyen d'une cible à base d'un mélange contenant ZnS et SiO2 sans addition de gaz o2 et de gaz h2 à l'atmosphère de pulvérisation
a second protective layer is formed by the sputtering method using a target of a mixture containing ZnS and SiO2
et on forme une seconde couche protectrice par procédé de pulvérisation au moyen d'une cible à base de mélange contenant ZnS et SiO2
Plasma sputtering method Using plasma sputtering method for molybdenum nitride production required high temperature, but at high temperatures can produce nanoscale nitride.
L'utilisation de la méthode de pulvérisation plasma pour la production de nitrure de molybdène requiert une température élevée, mais à des températures élevées peut produire du nitrure nanométrique.
Potentieel gevoelige of ongepaste informatie
Er worden alleen voorbeelden gegeven om u te helpen het woord of de woordcombinatie waarop u hebt gezocht, te vertalen. Deze worden niet door ons geselecteerd of gevalideerd en kunnen ongepaste taal bevatten. Wij vragen u melding te maken van voorbeelden die dienen te worden aangepast of verwijderd. Vertalingen met grof of informeel taalgebruik worden meestal rood of oranje gemarkeerd.
Er zijn geen resultaten gevonden voor deze term.
Synoniemen voor sputtering method using in het Engels