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sputtering target
Geflecteerde vorm van sputter target
Vertaling van "sputtering target" in Frans
cible de pulvérisation cathodique
cible pour pulvérisation cathodique
cibles de pulvérisation cathodique
Thus, the sputtering target can be obtained as a more effective target.
La cible de pulvérisation cathodique peut alors devenir une cible plus efficace.
The sputtering target is characterised through its low resistance and high density.
La cible de pulvérisation cathodique est caractérisée par sa faible résistance et sa densité élevée.
sputtering target with ultra-fine, oriented grains and method of making same
cible pour pulvérisation cathodique par grains orientés ultra-fins et son procédé de fabrication
spectacle lenses are coated by ion vapour deposition by means of sputtering target materials
on dépose une couche de vapeur ionique sur des lentilles de vue à l'aide de matériaux cibles de pulvérisation cathodique
Additionally, the sputtering target has a low specific resistance.
De manière supplémentaire, la cible de pulvérisation cathodique a une faible résistance spécifique.
A magnet bar assembly is disposed inside a sputtering target.
Un ensemble barre aimantée est disposé à l'intérieur d'une cible de pulvérisation cathodique.
Also disclosed is a sputtering target member for producing a thin film.
L'invention concerne également un élément cible de pulvérisation cathodique destiné à produire un film mince.
Provided is an indium sputtering target that obtains a high film formation rate.
L'invention concerne une cible de pulvérisation cathodique d'indium qui obtient un taux de formation de film élevé.
A production method thereof and a sputtering target applicable thereto are also disclosed.
Il est également divulgué un procédé de fabrication de celui-ci et une cible de pulvérisation cathodique applicable à celui-ci.
process for the refurbishing of a sputtering target
procédé de remise en état d'une cible de pulvérisation cathodique
method of soldering a sputtering target to a backing member
procédé de brasage d'une cible de pulvérisation cathodique sur un élément de support
Provided is a sputtering target for forming a thin film transistor wiring film.
La présente invention concerne une cible de pulvérisation cathodique pour la formation d'un film de câblage d'un transistor à couches minces.
Thus, a sputtering target which is highly dense and has high quality can be supplied.
Ainsi, on peut obtenir une cible de pulvérisation cathodique extrêmement dense et de grande qualité.
Synoniemen voor sputtering target in het Engels
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