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substrat à l'aide
substrat en utilisant
substrat au moyen d'
substrat par utilisation d'
substrat par l'utilisation
substrat, au moyen d'
Provided is a processing apparatus for processing a substrate by using a processing solution.
L'invention concerne un appareil de traitement permettant le traitement d'un substrat à l'aide d'une solution de traitement.
forming a separation layer on a substrate by using an inorganic material which is decomposed to generate a gas by being applied with an electromagnetic wave
former une couche de séparation sur un substrat à l'aide d'un matériau inorganique décomposé pour obtenir un gaz appliqué par onde électromagnétique
Its main advantage is the possibility to integrate passive/active components and antennas in the same substrate by using standard manufacturing processes.
Son principal avantage est la possibilité d'intégrer des composants passifs/actifs et des antennes dans le même substrat en utilisant des procédés de fabrication standard.
the high-pressure processor that processes a substrate by using high-pressure carbon dioxide
le processeur à haute pression qui traite un substrat en utilisant du dioxyde de carbone sous haute pression
detecting a second set of marks comprising at least said first mark on said substrate by using an available detector
à détecter un deuxième ensemble de marques comprenant au moins ladite première marque sur ledit substrat au moyen d'un détecteur disponible
Provided is a system for treating a substrate by using a block copolymer containing a first polymer and a second polymer.
La présente invention concerne un système destiné à traiter un substrat au moyen d'un copolymère à blocs contenant un premier polymère et un second polymère.
When a thin film is formed on a substrate by using a vacuum system, a special apparatus or facility for evacuating a chamber is needed, causing the manufacturing cost to increase.
Quand un film mince est formé sur un substrat au moyen d'un système sous vide, un appareil ou équipement spécial permettant d'évacuer une chambre est nécessaire, faisant augmenter ainsi les coûts de fabrication.
Provided is a substrate processing apparatus for processing a substrate by using a processing solution oscillated with ultrasonic waves.
La présente invention concerne un dispositif de traitement de substrat pour traiter un substrat au moyen d'une solution de traitement oscillée par ondes ultrasoniques.
an exposure apparatus forming a predetermined pattern on a substrate by using exposure light
un appareil d'exposition formant un modèle prédéterminé sur un substrat au moyen d'une lumière d'exposition
Then, the liquid material is applied into a gap between a substrate and the work placed on the substrate by using capillary phenomenon.
Ensuite, le matériau liquide est appliqué sur un espace entre un substrat et une pièce placée sur le substrat à l'aide d'un phénomène de capillarité.
After both principal planes of the substrate are polished, a first side film is deposited on one principal plane of the substrate by using a vacuum deposition method.
Une fois les deux plans principaux du substrat polis, un premier film latéral est déposé sur un plan principal du substrat à l'aide d'une méthode de déposition par vide.
At the time of processing the substrate by using a chemical, humidity at the periphery of the substrate is adjusted corresponding to the type of the chemical.
Au moment du traitement du substrat à l'aide d'un produit chimique, l'humidité à la périphérie du substrat est réglée de façon à correspondre au type du produit chimique.
As a result, provided is a method for easily producing a laminated substrate having an insulating layer at a portion of the substrate by using a porous silicon technique.
La présente invention a ainsi trait à un procédé permettant de produire facilement un substrat stratifié doté d'une couche isolante sur une partie du substrat à l'aide d'une technique de silicium poreux.
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