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the gate stack structure
Vertaling van "the gate stack structure" in Frans
la structure d'empilement de grille
Thus the gate stack structure has broad application prospect in nanocrystalline memory capacitors.
Ainsi, la structure d'empilement de porte présente un vaste potentiel d'application dans des condensateurs de mémoire nanocristallin.
the gate stack structure then undergoes a siliciding process with different variations to finally form a silicide gate.
la structure d'empilement de grille est ensuite soumise à un procédé de conversion en siliciure avec différentes variations afin de former finalement une grille de siliciure.
The grooves and the channel are completely covered by the gate stack structure and a polysilicon control gate (203).
Les rainures et le canal sont complètement couverts par la structure d'empilement de grilles et une grille (203) de commande de silicium polycristallin.
sidewall spacers are formed adjacent to the sides of the gate stack structure and a third insulating layer is formed over the gate stack and substrate
des espaceurs de parois latérales sont formés à proximité des côtés de la structure d'empilement de grille et une troisième couche isolante est formée sur l'empilement de grille et le substrat
the present invention teaches a method of forming a MOSFET transistor having a silicide gate which is not subject to problems produced by etching a metal containing layer when forming the gate stack structure
l'invention concerne un procédé de fabrication d'un transistor MOSFET possédant une grille de siliciure n'étant pas soumise aux problèmes produits par la gravure d'une couche contenant du métal lors de la fabrication de la structure d'empilement de grille
In the MOSFET device, the conventional isolated sidewalls on both sides of the gate stack structure are eliminated and the high resistance regions under the conventional isolated sidewalls are avoided.
Dans ce dispositif MOSFET, les parois latérales isolées conventionnelles des deux côtés de la structure empilée de grille sont éliminées et les régions à haute résistance au-dessous des parois latérales isolées conventionnelles sont supprimées.
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