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le motif de réseau
This grating mask is created at a position above the material that is to ultimately contain the grating pattern.
Ce masque de réseau est fabriqué dans une position se trouvant au-dessus du matériau qui doit éventuellement contenir le motif de réseau.
First the grating pattern is defined in a semiconductor material, which is the grating mask.
Premièrement, le motif de réseau est défini dans un matériau semi-conducteur, qui est le masque de réseau.
Upon the completion of the fabrication of the grating mask, the semiconductor structure is moved to a reactor, where in the second stage, the grating pattern defined by the grating mask is transferred into the underlying semiconductor layers by in-situ etching.
Lorsque la fabrication du masque de réseau est achevée, la structure à semi-conducteur est déplacée vers un réacteur dans lequel, lors de la seconde étape, le motif de réseau défini par le masque est transféré aux couches semi-conductrices sous-jacentes par gravure in situ.
a thin layer made of a polymer or organic material is coated over the first glass substrate after the formation of the anti-reflection coating layer on the first glass substrate, to form protrusions/grooves constituting the grating pattern
une couche mince de polymère ou de matériau organique est déposée sur le premier substrat en verre après formation de la couche de revêtement antireflet sur ledit substrat afin de former les saillies/rainures constituant le motif de réseau
These modifications will apply to the grating pattern as a whole.
The gratings are formed optically, with a phase mask being scanned by a writing laser beam to generate the grating pattern.
Les réseaux sont formés optiquement, un masque de phase étant balayé par un faisceau laser d'exploration afin de générer la configuration des réseaux.
When using the diffraction grating to measure, the encoder reduces an interference light signal intensity drop corresponding to a height change in the grating pattern surface.
Quand le réseau de diffraction est utilisé pour une mesure, l'encodeur réduit une chute de l'intensité du signal de la lumière d'interférence correspondant à un changement de hauteur dans la surface du motif de réseau.
the calibration system also includes a calibration pattern written onto a surface of the substrate, the calibration pattern comprising a ring that includes a grating pattern, where a radial position of the grating pattern corresponds to an error value of the position of the encoder pattern
le système d'étalonnage comporte également un motif d'étalonnage écrit sur une surface du substrat, le motif d'étalonnage comprenant un anneau comportant un motif en réseau, une position radiale du motif en réseau correspondant à une vleur erronée de la position du motif codeur
The angle formed by the arraying direction of the plurality of radiation shielding sections of the scattering elimination grating and the direction of pitch of the grating pattern is at least 0º and less than 90º.
L'angle formé par la direction de disposition en réseau des sections de protection contre le rayonnement du réseau d'élimination de diffusion et la direction du pas du diagramme de réseau est au moins égal à 0º et inférieur à 90º.
First the grating pattern is defined in a semiconductor material, wherein this pattern is called the semiconductor grating mask.
Dans un premier temps, on définit le dessin du réseau dans un matériau semi-conducteur, ce dessin étant appelé le masque de réseau semi-conducteur.
First the grating pattern is defined in a semiconductor material, which is the grating mask.
Ce masque de réseau est fabriqué dans une position se trouvant au-dessus du matériau qui doit éventuellement contenir le motif de réseau.
the parameters include a basic grating pattern for each segment, a value that defines the expansion or contraction of the grating pattern and an axis location to which the grating pattern is to be written to the substrate
ces paramètres comprennent un motif de réseau de base pour chaque segment, une valeur qui définit l'expansion ou la contraction de ce motif de réseau et un emplacement d'axe sur lequel le motif doit être imprimé sur le substrat
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