Vertaling van "the method includes patterning" in Frans
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le procédé consiste à tracer un motif sur
the method includes patterning the surface of the substrate such that a plurality of accessible surface areas is defined
the method includes patterning a base resist layer to provide for an opening which will form the stem of the tiered structure and subsequently stabilizing the resist base layer without deforming the stem opening
le procédé consiste ensuite à configurer une couche de réserve de base afin d'obtenir une ouverture formant la longueur de la structure étagée, puis à stabiliser la couche de réserve de base sans déformer l'ouverture sur la longueur
additionally, the method includes patterning the first molybdenum layer and the second molybdenum layer to form a lower electrode layer and forming a layer of photovoltaic material overlying the lower electrode layer
de plus, le procédé consiste à tracer des motifs sur la première couche de molybdène et la deuxième couche de molybdène pour former une couche d'électrode inférieure et à former une couche de matériau photovoltaïque superposée à la couche d'électrode inférieure
a method of forming a target pattern using a redox activated surface is disclosed. the method includes patterning a redox agent on a template layer formed on a substrate
la présente invention concerne un procédé de formation d'un motif cible à l'aide d'une surface activée par oxydoréduction. qui consiste à déposer un motif d'agent redox sur une couche modèle formée sur un substrat
a method is provided for fabricating electrodes for an electrostatically actuated MEMS device. the method includes patterning a wafer to define trenches, with each trench having an area selected in accordance with a desired depth
l'invention porte sur un procédé de fabrication d'électrodes pour un dispositif MEMS (système microélectromécanique) à commande électrostatique consistant à: dessiner une tranche de silicium pour y tracer des tranchées présentant chacune une surface liée à la profondeur désirée
The method includes patterning a material to conform to the patterned structure.
The method includes patterning a first layer at a top of the stack of material layers, and providing the secondary mask on top of the patterned first layer.
Le procédé comprend la formation de motifs sur une première couche au niveau d'une partie supérieure de la pile de couches de matériau, et la fourniture du deuxième masque sur la partie supérieure de la première couche façonnée.
The method includes patterning etch-impeding material formed on an emitter surface of the silicon wafer solar cell to form an etch-impeding mask.
Le procédé consiste à tracer un motif sur un matériau entravant la gravure formé sur une surface émettrice de la cellule solaire à plaquette de silicium pour former un masque entravant la gravure.
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