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to a method of patterning
Vertaling van "to a method of patterning" in Frans
un procédé de formation de motifs
Procédé de formation de motifs sur
The current invention is directed to a method of patterning a surface or layer in the fabrication of a micro-device.
Procédé de formation de motifs sur une surface ou sur une couche dans la fabrication d'un micro-dispositif.
The invention also relates to a method of patterning a work piece and a work piece as such.
Cette invention concerne également un procédé de formation de motif sur un élément à travailler et un tel élément à travailler.
A first embodiment of the present invention pertains to a method of patterning a semiconductor device conductive feature while permitting easy removal of any residual masking layer which remains after completion of the etching process.
Une première forme de réalisation de la présente invention concerne un procédé qui permet de façonner un motif conducteur de dispositif à semi-conducteur tout en facilitant l'élimination aisée de la couche de masquage résiduelle qui reste après la fin du processus de gravure.
the present disclosure pertains to a method of patterning a semiconductor device feature which provides for the easy removal of any residual masking layer which remains after completion of a pattern etching process
l'invention porte sur un procédé de gravure de motifs sur un dispositif à semi-conducteur permettant d'éliminer facilement toute couche résiduelle de masquage subsistant après achèvement du processus de gravure
the invention relates to a method of patterning a layer formed from a fixable material such as photopolymer on a surface in a desired pattern
la présente invention concerne un procédé permettant de faire un tracé sur une couche réalisée à partir d'un matériau tel qu'un photopolymère capable de prise sur une surface selon un tracé voulu
the present invention relates to a method of patterning a transparent conductive oxide film of conductive glass, and a conductive glass prepared thereby
l'invention concerne un procédé de façonnage d'un film d'oxyde conducteur transparent d'un verre conducteur, et un verre conducteur préparé à partir de ce procédé
The invention relates to a method of patterning a hard disk medium, comprising the step of applying a lithographic process to a resistive top layer of the hard disk medium, wherein the resistive top layer is exposed to a beam having multiple electron or optical beamlets.
L'invention concerne un procédé servant à configurer un disque dur et consistant à appliquer un traitement lithographique à une couche supérieure résistante du disque dur, ladite couche étant exposée à un faisceau composé de multiples petits faisceaux secondaires optiques ou électroniques.
the present invention relates to a method of patterning metallic building elements, and also to a metallic building element, where the measuring accuracy achieved can lie in the sub-micrometer range
la présente invention porte sur un procédé visant à structurer des éléments de construction métalliques, et également sur un élément de construction métallique, la précision de mesure obtenue pouvant se situer dans la plage du sous-micromètre
The present invention relates to a method of patterning a two-dimensional (two-dimensional) crystal layer such as e.g. a graphene layer, a structure comprising the patterned two-dimensional crystal layer, and a lighting device comprising the structure.
L'invention concerne un procédé de formation de motifs sur une couche cristalline bidimensionnelle telle, que par exemple une couche de graphène, une structure comprenant une couche cristalline bidimensionnelle à motifs et un dispositif d'éclairage comprenant la structure.
This disclosure relates to a method of patterning glass substrate in a glass heat-strengthening line and the resulting patterned heat- strengthened glass.
Cette invention porte sur un procédé de réalisation de motifs sur un substrat en verre dans une chaîne de renforcement par traitement thermique de verre et sur le verre renforcé par traitement thermique à motifs résultant.
This invention is directed to a method of patterning carbon nanotubes transparent electrically conductive coating/films, by modification of the applied carbon nanotube (CNT) network through use of sidewall group functionalization to disrupt electrical conductivity of the nanotubes.
L'invention concerne un procédé de formation de motifs dans des revêtements/films électroconducteurs transparents de nanotubes en carbone, par la modification du réseau de nanotubes en carbone traité par fonctionnalisation de groupes par parois latérales pour interrompre la conductivité électrique des nanotubes.
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