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first alignment mark
Vertaling van "first alignment mark" in Japans
第１のアライメントマーク
第１アライメントマーク
A first reference mask having a first reference mark formed on a mark support on which a light-transmitting area is defined in at least part thereof, and a first object having a first alignment mark formed thereon are disposed on a first stage.
少なくとも一部に光を透過させる領域が画定されたマーク支持部に第１の参照マークを形成した第１の参照マスクと、第１のアライメントマークを形成した第１の対象物を第１のステージに配置する。
In a liquid crystal display panel (1), at least the liquid crystal display panel (1) or a polarization plate (2) has an irregular planar shape other than a rectangular shape, and on an alignment film, a second alignment mark (3) is formed as a bonding mark for bonding the display panel on the polarization plate (2) by aligning the mark with a first alignment mark (4), which is arranged on the polarization plate (2) as a bonding mark.
本発明の液晶表示パネル（１）は、液晶表示パネル（１）および偏光板（２）のうち少なくともいずれか一方の平面形状が、矩形以外の異形の形状であり、配向膜には、貼り合わせの目印として偏光板（２）に設けられた第１のアライメントマーク（４）と位置合わせをして偏光板（２）と貼り合わせる、貼り合わせの目印としての第２のアライメントマーク（３）が形成されている。
When the first alignment mark (11) and the second alignment mark (12) are viewed from the vertical direction with respect to the opposing surface of the interposer substrate (4a), they are apart from each other by a distance of a range allowing a bonding position when bonding the liquid crystal driver (3) to the interposer substrate (4a).
第１アライメントマーク（１１）と第２アライメントマーク（１２）とを、インターポーザ基板（４ａ）の上記対向面に対して垂直方向からみると、互いが、液晶ドライバ（３）とインターポーザ基板（４ａ）を貼り合せる際の貼り合わせ位置として許容できる範囲の距離ほど離間されている。
The method for manufacturing a substrate structure for PDP includes a step for forming a photosensitive material film (13) on a substrate where a transparent electrode and a first alignment mark (11) are formed, a step for aligning a photomask having a pattern for forming a bus electrode with the substrate, and a step for transcribing the photomask's pattern for forming a bus electrode onto the photosensitive material film (13) through exposure, wherein the photomask has a pattern for forming asecond alignment mark.
本発明のＰＤＰ用基板構体の製造方法は、透明電極及び第１アライメントマーク（１１）が形成された基板上に感光性材料膜（１３）を形成し、バス電極形成用パターンを有するフォトマスクと前記基板の位置合わせを行い、前記フォトマスクのバス電極形成用パターンを前記感光性材料膜（１３）に露光により転写する工程を備え、前記フォトマスクは、第２アライメントマーク形成用パターンを有し、前記位置合わせは、第２アライメントマーク形成用パターンを前記感光性材料膜（１３）に局所露光により転写して前記感光性材料膜に第２アライメントマーク（２１）を形成し、第１アライメントマーク（１１）と第２アライメントマーク（２１）の相対的な位置関係に基づいて前記フォトマスクと前記基板の位置調整を行う工程を備える方法によって行われることを特徴とする。
The EL element-use sealing plate multiple-beveling mother glass substrate is mounted to a rectangular EL element-use glass substrate multiple-beveling mother glass substrate having a first alignment mark to constitute a plurality of EL displays, and has, in a position corresponding to the first alignment mark, a second alignment mark for aligning with the EL element-use glass substrate multiple-beveling mother glass substrate.
EL素子用封止板多面取り用マザーガラス基板は、第1アライメントマークを有する矩形のEL素子用ガラス基板多面取り用マザーガラス基板に取付けられて、複数のELディスプレイを構成し、前記EL素子用ガラス基板多面取り用マザーガラス基板との位置合わせのための第2のアライメントマークを前記第1のアライメントマークの対応位置に有する。
When viewed in plan view, the first alignment mark (27) and second alignment mark (28) are disposed so as to completely overlap one another.
平面視において、第１アライメントマーク（２７）と第２アライメントマーク（２８）とが完全に重なり合うように配置されている。
The liquid crystal driver (3) includes a first alignment mark (11) on a surface opposing to the interposer substrate (4a).
本発明の一実施形態である液晶ドライバ実装パッケージ（１）は、インターポーザ基板（４ａ）を介してフィルム基材（２）と液晶ドライバ（３）とが接続している。
The semiconductor chip and the wiring cable are connected such that the position of the first alignment mark and the position of the second alignment mark correspond.
表面に形成された複数の撮像素子と裏面に形成された複数の接続パッドとを有し、第１のアライメントマークが設けられた半導体チップと、複数の配線が一体に成形され、第１のアライメントマークに対応する第２のアライメントマークが設けられた配線ケーブルと、を備え、第１のアライメントマークの位置と第２のアライメントマークの位置とを対応させた状態で、半導体チップと前記配線ケーブルとが接続されている配線ケーブルの接続構造。
The mask has an exposure pattern with a pattern formed to be transferred to the exposed mask further includes a first alignment mark formed adjacent to a first side of the outer rim of the exposure pattern and a second alignment mark formed adjacent to a second side that faces the first side of the outer rim of the exposure first alignment mark is disposed so as not to overlap the second alignment mark when viewed in the direction of stepping.
また、マスクは、被露光基板に露光するパターンが形成された露光パターンと、露光パターンの外縁の第１の辺に隣接した位置に形成された第１のアライメントマークと、露光パターンの外縁の第１の辺に対向する第２の辺に隣接した位置に形成された第２のアライメントマークと、を有し、第１のアライメントマークは、ステップ方向から見た場合において、第２のアライメントマークが形成されている位置とは、重ならない位置に配置されている。
Synoniemen voor first alignment mark in het Engels
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Afbeelding van de dag
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