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method for pattern formation using
Vertaling van "method for pattern formation using" in Japans
を用いたパターン形成方法
This invention provides a composition for upper surface antireflection film formation, which prevents pattern failure caused by reflection in a film in an exposure process and is free from a problem of a residue in an etching process, and a method for pattern formation using the same.
本発明は、露光工程において膜内の反射によるパターン不良を防ぎ、かつエッチング工程における残渣の問題がない上面反射防止膜形成用組成物と、それを用いたパターン形成方法を提供するものである。
This invention provides a film forming composition for nanoimprinting, which has excellent resistance to etching with oxygen gas, can prevent the separation of a transfer pattern, can eliminate a problem of a holing time on a substrate, and is also excellent in transferability, and photosensitive resist, a nanostructure, a method for pattern formation using the same, and a program for realizing the method for pattern formation.
本発明は、酸素ガスに対するエッチング耐性に優れるとともに、転写パターンの剥離を防止し、基板上における保持時間についての問題を解消し、転写性にも優れるナノインプリント用の膜形成組成物及び感光性レジスト、ナノ構造体、これらを用いたパターン形成方法、並びにこのパターン形成方法を実現するためのプログラムを提供する。
This invention provides a material for pattern formation, which, when a highly transparent material is used as a support for the formation of a pattern like a solder resist, can realize a good resist face shape, a higher-definition pattern, and a suitable blue or green color, and an apparatus for pattern formation, comprising the material for pattern formation, and a method for pattern formation using the material for pattern formation.
ソルダーレジストのようなパターンの形成を目的として、高透明な物質を支持体として使用することにより、得られるレジスト面形状が良好で、かつ、より高精細なパターンであり、好適な青、緑色となるパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供することを目的にする。
This invention provides a positive working resist composition, comprising (A) a resin, which comprises all of repeating units represented by general formulae (I) to (III) and is rendered soluble in an alkali developing solution through the action of an acid, and (B) a compound which generates an acid upon exposure to an actinic radiation or a radiation, and a method for pattern formation using the positive working resist composition.
（Ａ）一般式（Ｉ）～（ＩＩＩ）で表される各繰り返し単位を全て含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂および（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法。
RESIST MATERIAL AND METHOD FOR PATTERN FORMATION USING THE RESIST MATERIAL
レジスト材料及びそれを用いたパターン形成方法
PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR PATTERN FORMATION USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法
POSITIVE-WORKING PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR PATTERN FORMATION USING THE COMPOSITION, AND RESIN FOR USE IN THE COMPOSITION
ポジ型感光性組成物、該組成物を用いたパターン形成方法、及び、該組成物に用いられる樹脂
FLUORINE-CONTAINING LACTONE MONOMERIC COMPOUND, FLUORINE -CONTAINING LACTONE POLYMERIC COMPOUND, RESIST FLUID AND TOPCOATING COMPOSITION THAT CONTAIN SAME, AND METHOD FOR PATTERN FORMATION USING SAME
含フッ素ラクトンモノマー化合物、含フッ素ラクトンポリマー化合物とそのレジスト液およびトップコート用組成物、およびそれを用いたパターン形成方法
Woord & uitdrukking van de dag
Afbeelding van de dag
Resultaten: 8. Exact: 8. Verstreken tijd: 25 ms.
