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pattern formation step

Vertaling van "pattern formation step" in Japans

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パターン形成工程
The method includes a pattern formation step whereby a pattern is formed by printing the aforementioned diffusion agent composition onto a semi-conductor substrate, and a diffusion step whereby the impurity diffusion component (A) in the diffusion agent composition is diffused onto the semi-conductor substrate.
また、不純物拡散層の形成方法は、半導体基板に、上述の拡散剤組成物を印刷してパターンを形成するパターン形成工程と、拡散剤組成物の不純物拡散成分（Ａ）を半導体基板に拡散させる拡散工程と、を含む。
The ratio of the width of the initial line to the opening width of the groove is set at 3:5, and the thin film is formed so that the ratio of the width of the thin film opening that corresponds to the groove to the thin film side wall width of a side wall portion covering the side wall of the line is 3:1 after the double pattern formation step of a first time, and 1:1 after that of a second time.
この時、当初のラインの幅と溝の開口幅との比を３：５に設定し、また溝に対応する薄膜の開口幅と、ラインの側壁を覆う側壁部の側壁幅と、の比がダブルパターン形成工程の１回目においては３：１、２回目においては１：１となるように薄膜を成膜する。
The present invention provides a pattern forming method which comprises, in the following order: (1) a resist underlayer film formation step wherein a resist underlayer film is formed on the upper surface of a substrate to be processed by applying a composition for forming a resist underlayer film thereto, said composition containing a resin that has a phenolic hydroxy group; (2) a resist pattern formation step wherein a resist pattern is formed on the upper surface of the resist underlayer film; (3) a pattern formation step wherein at least the resist underlayer film and the substrate to be processed are dry etched using the resist pattern as a mask, so that the substrate to be processed is patterned; and (4) a resist underlayer film removal step wherein the resist underlayer film on the substrate to be processed is removed by means of a basic solution.
本発明は、（１）フェノール性水酸基を有する樹脂を含むレジスト下層膜形成用組成物の塗布により、被加工基板の上面側にレジスト下層膜を形成するレジスト下層膜形成工程と、（２）上記レジスト下層膜の上面側にレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、（３）上記レジストパターンをマスクとして、少なくとも上記レジスト下層膜及び被加工基板をドライエッチングし、被加工基板にパターンを形成するパターン形成工程と、（４）上記被加工基板上のレジスト下層膜を塩基性溶液で除去するレジスト下層膜除去工程とをこの順に有するパターン形成方法である。
The disclosed method includes: a first pattern formation step (S13) wherein a pattern which includes a second line section is formed by etching an antireflection film with a first line section as a mask, the first line section being formed from a photoresist film; an irradiation step (S14) wherein electrons are irradiated on the photoresist film; a silicon oxide film formation step (S15) wherein a silicon oxide film is formed; an etching step (S16) wherein the silicon oxide film is etched in a manner so as to remain as side wall sections of the second line section; and a second pattern formation step (S18) wherein a mask pattern is formed which is formed from the silicon oxide film, and which has a third line section remaining as the side wall section thereof, by means of ashing the second line section.
フォトレジスト膜よりなる第１のライン部をマスクとして反射防止膜をエッチングすることによって、第２のライン部を含むパターンを形成する第１のパターン形成工程Ｓ１３と、フォトレジスト膜に電子を照射する照射工程Ｓ１４と、酸化シリコン膜を成膜する酸化シリコン膜成膜工程Ｓ１５と、第２のライン部の側壁部として残存するように、酸化シリコン膜をエッチバックするエッチバック工程Ｓ１６と、第２のライン部をアッシングすることによって、酸化シリコン膜よりなり、側壁部として残存する第３のライン部を含むマスクパターンを形成する第２のパターン形成工程Ｓ１８とを有する。
Disclosed are: a method for manufacture of a substrate with a septum for use in an ink-jet color filter, comprising the following steps: a photosensitive resin layer formation step in which a photosensitive resin composition comprising at least a photopolymerization initiatoror or a photopolymerization initiation system, a monomer and a binder is applied onto at least one surface of a substrate to form a photosensitive resin layer; a light exposure step in which the photosensitive resin layer formed on the substrate is exposed to light through a pattern; an image-development step in which the photosensitive resin layer is subjected to image development; and a septum pattern formation step in which a pattern for the septum is formed, wherein the amount of the residual solvent in the photosensitive resin layer is adjusted to 100 μL/m2 or less; the substrate; a color filter provided with the substrate; a method for manufacture of the color filter; and a liquid crystal display element.
本発明は、基板上の少なくとも一方の面に、光重合開始剤または光重合開始系、モノマー、バインダーを少なくとも含有する感光性樹脂組成物を塗布して、感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程、該基板上に形成した感光性樹脂層をパターン露光する露光工程及び該パターン露光後の感光性樹脂層を現像する現像工程、並びに隔壁パターンを形成する隔壁パターン形成工程を有し、前記感光性樹脂層の残留溶剤量を１００μＬ／ｍ２以下であるインクジェットカラーフィルター用隔壁付き基板及びその製造方法、該インクジェットカラーフィルター用隔壁付き基板を有するカラーフィルター及びその製造方法、液晶表示装置を提供する。
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Synoniemen voor pattern formation step in het Engels

Woord & uitdrukking van de dag
Afbeelding van de dag
jug: container with a handle and spout for liquids
Ontdek het woord
jug
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