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resist pattern formation method using

Vertaling van "resist pattern formation method using" in Japans

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用いるレジストパターン形成方法
Specifically disclosed are: a cyclic compound having a specific structure; a process for producing the cyclic compound; a radiation-sensitive composition containing the compound; and a resist pattern formation method using the composition.
特定構造を有する環状化合物、その製造方法、該化合物を含む感放射性組成物、及び該組成物を用いるレジストパターン形成方法。
Disclosed are: a cyclic compound which has high solubility in a safe solvent, is highly sensitive, enables the formation of a resist pattern having a good shape, and rarely causes resist pattern collapse; a process for producing the cyclic compound; a radiation-sensitive composition containing the cyclic compound; and a resist pattern formation method using the composition.
安全溶媒に対する溶解性が高く、高感度でかつ、得られるレジストパターン形状が良好で、レジストパターン倒れを生じにくい環状化合物、その製造方法、その環状化合物を含む感放射線性組成物、及び該組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。
A polymerizable composition for a solder resist, comprising an infrared ray blocking material, a polymerization initiator and a polymerizable compound; and a solder resist pattern formation method using the polymerizable composition for a solder resist.
本発明は、赤外線遮蔽材、重合開始剤、及び、重合性化合物を含有するソルダーレジスト用重合性組成物、及び、ソルダーレジスト用重合性組成物を用いたソルダーレジストパターンの形成方法を提供する。
A resist composition containing a compound represented by general formula (1) or (2), a resist pattern formation method using said resist composition, a polyphenol compound used in the resist pattern formation method, and an alcohol compound capable of being derived from said polyphenol compound.
一般式（１）又は（２）で示される化合物を含有するレジスト組成物、それを用いるレジストパターン形成方法、それに用いるポリフェノール化合物及びそれから誘導され得るアルコール化合物。
Disclosed are: a composition for forming a resist underlayer film for electron beam or EUV lithography, which can be used in a device manufacture process that employs electron beam or EUV lithography, is rarely subjected to the adverse effects of electron beam or EUV, and is effective for the formation of a good resist pattern; and a resist pattern formation method using the composition.
【課題】　電子線やＥＵＶリソグラフィーを用いたデバイス作製工程に用いられる、電子線、ＥＵＶによって及ぼされる悪影響を低減し、良好なレジストパターンを得るのに有効な電子線又はＥＵＶリソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物、並びに該レジスト下層膜形成組成物を用いるレジストパターン形成法を提供する。
ALICYCLIC COMPOUND, METHOD FOR MANUFACTURING SAME, COMPOSITION CONTAINING SAME AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD USING SAME
脂環式化合物、その製造方法、それを含む組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法
Disclosed are an alicyclic compound in which a cholic acid ester structure-containing group is bound to an adamantane skeleton, method for manufacturing the same, composition containing the same, and resist pattern formation method using the same, that provide an alicyclic compound which has superior solvent properties, light exposure sensitivity, resolution, roughness, and heat resistance, etc., and especially excellent dissolution inhibiting effect against development fluids, and is useful as a positive photoresist monomer or dissolution inhibitor used in semiconductor device fabrication, and that provide a method for manufacturing the same, composition containing the same, and resist pattern formation method using the same.
アダマンタン骨格にコール酸類エステル構造含有基が結合した脂環式化合物、その製造方法、それを含む組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法により、半導体装置製造に用いられるポジ型フォトレジスト用モノマーあるいは溶解抑止剤などとして有用な、溶解特性、露光感度、解像度、ラフネス、耐熱性等に優れ、特に現像液に対する溶解抑止効果に優れた脂環式化合物、その製造方法、それを含む組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法を提供する。
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Woord & uitdrukking van de dag
Afbeelding van de dag
jug: container with a handle and spout for liquids
Ontdek het woord
jug
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