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substrate processing device comprises
Vertaling van "substrate processing device comprises" in Japans
基板処理装置
A substrate processing device comprises: a substrate stage; a support that supports the substrate stage; a first rotation drive portion that causes the support to rotate; and at least three lift pins, provided in the substrate stage, for supporting and elevating a substrate.
基板処理装置は基板ステージと、基板ステージを支持する支柱と、支柱を回転させる第一回転駆動部と、基板ステージ内に設けられ、基板を支持しながら昇降するための少なくとも３つのリフトピンと、を備える。
A substrate processing device comprises an emissivity measuring members (21, 22, 23) for measuring the emissivity of at least one surface of a substrate before and after processing at a location other than a processing furnace for processing the substrate, and a memory section (11) for conserving the results of measurement.
基板処理装置は、基板を処理する処理炉以外の場所で処理前および処理後の少なくとも一方の基板表面の放射率を測定する放射率測定部材（２１、２２、２３）と、測定結果を保存する記憶部１１とを備えている。
A substrate processing device comprises: a substrate support member which has a curved surface curved with a constant radius from a prescribed axis and supports a substrate with a part of the substrate wound along the curved surface; a processing unit which is arranged on the periphery of the substrate support member when seen from the axis and processes a substrate that is on the curved surface at a specific position in the circumferential direction; and a temperature adjustment device which adjusts the temperature of the substrate before the substrate is supplied to the substrate support member.
基板処理装置は、所定の軸から一定半径で湾曲した曲面を有し、基板の一部分が曲面に巻き付けられて基板を支持する基板支持部材と、軸からみて基板支持部材の周囲に配置され、周方向のうち特定位置の曲面にある基板に処理を施す処理部と、基板支持部材に供給される前の基板の温度を調節する温度調節装置と、を備える。
A substrate processing device comprises: a loading port into which a carrying container is conveyed; a detection unit for detecting a storage state of a substrate in the carrying container conveyed into the loading port and having the cover removed therefrom; a processing unit for processing the substrate picked up from the carrying container conveyed into the loading port; and a control unit.
基板処理装置は、搬送容器が搬入されるロードポートと、ロードポートに搬入され、蓋体が取り外された搬送容器内の基板の収納状況を検出する検出部と、ロードポートに搬入された搬送容器から取り出された基板を処理するための処理部と、制御部とを備える。
A substrate processing device comprises: a storage tank for storing a phosphoric acid aqueous solution; a substrate support means for supporting a substrate immersed in the phosphoric acid aqueous solution horizontally in the storage tank; and a heating means, having a heater arranged opposite the substrate which is supported by the substrate support means, for heating the substrate with radiant heat or transmitted heat from the heater.
この基板処理装置は、リン酸水溶液を貯留する貯留槽と、前記貯留槽内のリン酸水溶液に基板を浸漬させた状態で、当該基板を水平姿勢に保持する基板保持手段と、前記基板保持手段に保持されている基板と対向する発熱部を有し、当該基板を、前記発熱部からの熱輻射または熱伝達により加熱する加熱手段とを含む。
The substrate processing device comprises a license information receiving means for regularly receiving license information on the software from a license information provision device connected via a network, a license information analyzing means for extracting the address information of the license information provision device on the network from the license information and a license judging means for comparing the address information extracted from the license information with the address information of the license information provision device pre-stored in the substrate processing device.
ソフトウェアによる制御に基づいて基板を処理する基板処理装置であって、ネットワークを介して接続するライセンス情報提供装置より前記ソフトウェアに対するライセンス情報を定期的に受信するライセンス情報受信手段と、前記ライセンス情報提供装置のネットワーク上のアドレス情報を前記ライセンス情報より抽出するライセンス情報解析手段と、前記ライセンス情報より抽出された前記アドレス情報と当該基板処理装置に予め保存されている前記ライセンス情報提供装置の前記アドレス情報とを比較するライセンス判定手段とを有し、二つの前記アドレス情報の値が一致しない場合は、前記ソフトウェアの少なくとも一部の機能の実行を制限する。
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Afbeelding van de dag
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