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the pattern clip
Ensuite, le système détermine si le pattern clip correspond à une configuration de point sensible de fabrication connue.
Next, the system determines if the pattern clip matches a known manufacturing hotspot configuration.
Le système extrait ensuite un ensemble de descriptions de guidage de correction à partir de la première plage de variations pour corriger le pattern clip.
The system then extracts a set of correction guidance descriptions from the first range of variations for correcting the pattern clip.
Ultérieurement, le système stocke le pattern clip et l'ensemble des descriptions de guidage de correction dans une base de données de points sensibles par pattern clip.
Subsequently, the system stores the pattern clip and the set of correction guidance descriptions in the pattern-clip-based hotspot database.
Si le pattern clip ne correspond pas à une configuration de point sensible de fabrication connue, le système effectue alors un traitement de perturbation sur le pattern clip pour déterminer un ensemble de recommandations de correction pour éliminer le point sensible de fabrication.
If the pattern clip does not match a known manufacturing hotspot configuration, the system then performs a perturbation process on the pattern clip to determine a set of correction recommendations to eliminate the manufacturing hotspot.
Par la réalisation du traitement de perturbation, le système détermine de plus des plages de perturbation pour l'ensemble de polygones, le pattern clip perturbé n'éliminant pas le point sensible de fabrication.
By performing the perturbation process, the system additionally determines ranges of perturbation to the set of polygons wherein the perturbed pattern clip does not eliminate the manufacturing hotspot.
Puis, pour chaque pattern clip, le système perturbe le pattern clip pour déterminer une première plage de variations pour l'ensemble constitutif des géométries selon lequel le pattern clip perturbé ne provoque plus de point sensible de fabrication.
Next, for each pattern clip, the system perturbs the pattern clip to determine a first range of variations for the constituent set of geometries wherein the perturbed pattern clip no longer causes a manufacturing hotspot.
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