Głównym plusem techniki EUV jest zachowanie struktury materiału.
A major plus with the EUV technique is that the material's structure is conserved.
Nieoczekiwanie pomiary nie wykazały żadnych rezultatów, wykryto jedynie bardzo słabą poświatę w paśmie EUV, mimo teoretycznych przewidywań znacznie wyższych wartości emisji.
Surprisingly, these measurements produced a null result, with only very faint EUV emissions detected, despite theoretical expectations of much stronger emissions.
Naukowcy przeprowadzili konwersję femtosekundowych impulsów laserowych w zakresie widmowym podczerwieni w femtosekundowe błyski światła w EUV.
The scientists converted femtosecond laser pulses in the infrared spectral range to femtosecond light flashes in the EUV.
Ultraktrótkie, pulsujące światło EUV jest wykorzystywane w fizyce laserowej do badania wnętrza atomów i molekuł, dlatego taka wiedza technologiczna umożliwi niedługo naukowcom pomiary ruchu elektronów w bardzo wysokiej rozdzielczości przestrzennej i czasowej.
Ultrashort, pulsed EUV light is used in laser physics to explore the inside of atoms and molecules, therefore technological knowledge like this will soon enable scientists to measure the movement of electrons with the highest spatial and temporal resolution.
Mniejsze struktury będzie można generować w przyszłości tylko z użyciem jeszcze mniejszych długości fal w zakresie skrajnego ultrafioletu (EUV).
In the future, it will only be possible to generate smaller structures with even shorter wavelengths in the extreme ultraviolet range (EUV).
Dokładne i wyczerpujące wielowymiarowe modelowanie procesów uwikłanych w proces oddziaływania plazmy z tarczą (target) jest pomocne w przewidywaniu zachowania się plazmy i osiągnięciu najlepszych warunków dla maksymalizacji generowania fotonów w zakresie ekstremalnego nadfioletu (EUV).
Accurate and comprehensive multidimensional modeling of various processes involved in laser target interaction can help in predictions of plasma behavior and achieving the most favorable conditions for maximizing EUV photons generation and collection.
Zwierciadło kolektora zbiera promieniowanie w zakresie EUV, które jest emitowane przez plazmę we wszystkich kierunkach. Światło jest zbierane w wiązkę i przekazywane do systemu litografii (4), gdzie oświetla wafel krzemowy (5).
A collector mirror captures the EUV radiation emitted by the plasma in all directions, bundles it, and finally transfers it to the lithography system (4) for exposure of the wafer (5).
Mikroczipy stosowane w sztucznej inteligencji, autonomicznych pojazdach i w wielu innych zastosowaniach: Litografia EUV przyspiesza przejście do ery cyfrowej, ponieważ umożliwia wykonywanie jeszcze mniejszych struktur na waflach krzemowych.
Microchips for artificial intelligence, autonomous vehicles, and much more: EUV lithography is the catalyst for the digital age, because it can be used to create ever smaller structures on silicon wafers.
Przewodniczący zwrócił uwagę na szereg przełomowych innowacji i kluczową rolę, jaką program MEDEA+ odegrał w dziedzinie technologii półprzewodnikowej przetwarzania sygnałów i litografii EUV.
The chairman pointed to a number of breakthrough innovations and the key role played by MEDEA+ in both semi conductor process technology and EUV lithography.
13,5 Nanometr... to długość fali światła w zakresie skrajnego ultrafioletu (EUV), które umożliwia produkcję struktur o wielkości poniżej 10 Nm.
is the wavelength of the extreme ultraviolet (EUV) light that is created, which facilitates the manufacture of structural sizes of less than 10 nanometres.
Księgozbiór podręczny to zbiór książek, kaset lub płyt wypożyczanych pracownikom CP, EUV oraz ULO na okres minimum jednego roku.
A scholar's collection is a collection of books, cassettes or discs lent to CP, EUV and ULO staff for a minimum of one year.
Bezpośrednia detekcja VUV, EUV oraz miękkiego promieniowania rentgenowskiego następuje w drodze absorpcji fotonów i generowania par dziur elektronowych.
Direct detection of VUV, EUV and soft X-rays occurs by photon absorption and generation of electron hole pairs.
Współpracujące ze sobą firmy ASML, Zeiss i TRUMPF opracowały technologię, która pozwala korzystać ze światła w zakresie ekstremalnego ultrafioletu (EUV) o długości fal 13,5 nm na skalę przemysłową: w komorze próżniowej generator kropel uwalnia 50000 najdrobniejszych kropel cyny na sekundę.
ASML, Zeiss and TRUMPF joined forces and developed a technology to produce extreme ultraviolet (EUV) light with a wavelength of 13.5 nanometres for industrial use: in a vacuum chamber, a droplet generator fires 50,000 minuscule droplets of tin per second.
