Nuestras láminas de calidad premium se fabrican por medio del proceso Sputtering.
Our premium films have been manufactured by means of the sputtering process.
Decorativo estante de exhibición máquina de revestimiento de vacío magnetrón Sputtering pistola
Decorative display rack vacuum coating machine magnetron sputtering gun
En el proyecto que se presenta, se realiza la puesta a punto de un equipo para la fabricación de nanopartículas mediante magnetrón Sputtering.
In the presented project, the development of equipment for the manufacture of nanoparticles by magnetron sputtering is performed.
Sputtering con sorpresa llegó la respuesta,
Sputtering with surprise the reply came,
Sputtering es un proceso por el cual las partículas son expulsadas de un material sólido debido al bombardeo del blanco por partículas energéticas, particularmente, en el laboratorio, iones de gas.
Sputtering is a process whereby particles are ejected from a solid target material due to bombardment of the target by energetic particles, particularly, in the laboratory, gas ions.
Con el objetivo de solventar dichos inconvenientes, se propone la fabricación de nanopartículas en condiciones de alto vacío, siendo el método físico de pulverización catódica (Sputtering) uno de los más emergentes en este campo.
In order to overcome these drawbacks, the manufacture of nanoparticles in high vacuum conditions is proposed, being the physical sputtering method (sputtering) one of the most emerging in this field.
Si la evaporación se produce por bombardeo sobre el metal o cerámico (en este caso el blanco o cátodo no tiene porqué ser metálico) de un haz de iones de un gas inerte (Ar) la técnica se denomina Sputtering.
If the evaporation is produced by ion-beam bombardment of argon over the metal or ceramic target the process is then called Sputtering (in this particular case the target or cathode does not have to be metallic).
La "calidad" del vacío está determinada por la cantidad de presión que hay en el ambiente controlado por el Sputtering. Por esto, es fundamental alcanzar presiones muy bajas.
The "quality" of the vacuum is determined by the amount of pressure on the controlled environment of the sputtering therefore, it is crucial to reach very low-pressure levels.
Este proyecto se propone el desarrollo de nuevos recubrimientos nanoestructurados multifuncionales por la técnica de PVD-Magnetron Sputtering para aplicaciones mecánicas y tribológicas en los que se alcance un equilibrado compromiso entre todas las propiedades mencionadas de fricción, dureza, estabilidad térmica.
This project goal is to develop bew multifunctional nanostructured sys-tems by the Magnetron Sputtering PVD technique for mechanical and tribological applications where an adequate balance among the above-mentioned properties as friction, hardness and thermal stability are searched.
El viernes 29 de diciembre de 2017, mediante sistemas avanzados de bombeo, el Sputtering fue capaz de llegar a presiones comparables a las del vacío del espacio exterior. Incluso en el futuro cercano se podrá disminuir estas presiones.
On Friday, December 29, 2017, through very advanced pumping systems, the sputtering was able to reach a pressure level that is comparable to the outer space vacuum, in the near future, this pressure level can be decreased.
El presente trabajo se orientó al estudio de las propiedades ópticas de películas delgadas de TiO2 depositadas mediante Magnetrón Sputtering RF sobre sustratos de mica tipo moscovita.
This work was aimed to study the optical properties of titanium dioxide thin films, which were deposited on muscovite substrates by Magnetron Sputtering RF using a titanium dioxide target.
Sputtering Components Inc ha añadido la serie SM de "end blocks" a su gama de productos de deposición por pulverización catódica que no necesitan servicio para sus primeros 24 meses de operación.
Sputtering Components Inc have added the SM series of end-blocks to their range of sputter deposition products that will have no service requirements for their first 24 months of operation.
Reparación y caracterización de equipos de High Pressure Sputtering afectado por problemas de invasión del plasma dentro de los electrodos.
Reparation and characterization of High Pressure Sputtering equipment suffering problems related to plasma invasion of the electrodes.
