Hierbei verbleibt das Halbleitermaterial außerhalb des Fokus im Wesentlichen unverändert.
Entsprechend höher ist bei der kristallinen Technologie der Einsatz von teurem Halbleitermaterial.
Source und Drain werden in dem selektiv abgeschiedenen Halbleitermaterial realisiert.
Source and drain are implemented in the selectively deposited semiconductor material.
Vorzugsweise weist die Vorrichtung eine Lagerfläche für das Halbleitermaterial auf.
Preferably, the apparatus has a bearing surface for the semiconductor material.
Verfahren zum Herstellen von Kontaktöffnungen in auf Halbleitermaterial angeordneten Isolierschichten.
Process for making contact holes in insulating layers applied to semiconductor material.
Aus dem entstandenen Filterkuchen kann wieder Halbleitermaterial für neue Module gewonnen werden.
Semiconductor material for new modules can be obtained from the resulting filter cake.
Verfahren von irgendeinem vorhergehenden Anspruch, in dem das amorphe Halbleitermaterial Silicium ist.
The method of any preceding claim wherein said amorphous semiconductor material is silicon.
Sodann wird von den Erhebungen vorhandenes Passivierungsmaterial sowie gegebenenfalls Halbleitermaterial entfernt.
Existing passivation material and possibly semiconductor material is then removed from the projections.
Das wichtigste Halbleitermaterial, aus dem Computerchips heute hergestellt werden, ist Silizium.
The main semiconductor material that computer chips are made of is silicon.
Bezeichnet einen Block aus Halbleitermaterial, z. B. aus Silizium.
Describes a block made of semiconductor material, e.g. silicon.
Die an Solarzellen abgreifbare Spannung ist abhängig vom Halbleitermaterial.
The usable voltage from solar cells depends on the semiconductor material.
Verfahren zur Herstellung grob- bis einkristalliner Folien aus Halbleitermaterial.
Process for forming large to single crystal ribbons of semiconductor material.
Herstellungsverfahren für eine Reliefstruktur auf einem Substrat aus Halbleitermaterial.
Method for making a relief structure on a substrate from semiconductor material.
