Sensor nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß Intervalle zwischen den quadratischen Abschnitten des Matrixmusters der wenigstens einen stationären Elektrode nicht mehr als 100 µm betragen.
Sensor according to claim 9, characterized in that intervals between the square portions of the matrix pattern of said at least one stationary electrode are not more than 100 µm.
Verfahren nach Anspruch 44, worin das Wasserabweisungsvermögen des Matrixmusters, das durch Mustern der lichtempfindlichen Schicht gebildet ist, weiterhin durch Nachbacken des Matrixmusters verbessert wird.
The method according to claim 44 wherein water repellency of the matrix pattern formed by patterning of the photosensitive resin layer is further improved by postbaking of the matrix pattern.
Andere resultaten
Verfahren nach Anspruch 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Mehrpegel-Daten für die erste Tinte und die Mehrpegel-Daten für die zweite Tinte unter Verwendung eines Dither-Matrixmusters binärisiert werden.
A method according to claim 4 or claim 5 in which the multilevel data for the first ink and the multilevel data for the second ink are binarised using a dither matrix pattern.
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