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Mustermatrix
The electrophotographic image forming apparatus according to claim 1, wherein: said position data is included in said pattern matrix.
Die elektrofotografische Bilderzeugungsvorrichtung nach Anspruch 1, wobei die Positionsdaten in der Mustermatrix enthalten sind.
The electrophotographic image forming apparatus according to claim 6, wherein said pattern matrix includes first and second elements that are correlated with different first look-up tables and the same second look-up table.
Die elektrofotografische Bilderzeugungsvorrichtung nach Anspruch 6, wobei die Mustermatrix erste und zweite Elemente enthält, die unterschiedlichen ersten Look-up-Tabellen und der gleichen zweiten Look-up-Tabelle zugeordnet sind.
A color electrophotographic apparatus according to claim 4, wherein a partial overlap exists in the reference data provided within the pattern matrix, and a single γ table is referred to by the plurality of dots within the pattern matrix.
Ein farbelektrophotographischer Apparat gemäß Anspruch 4, worin ein teilweiser Überlapp in den innerhalb der Mustermatrix bereitgestellten Bezugsdaten existiert und von der Mehrzahl der Punkte innerhalb der Mustermatrix auf eine einzige γ Tabelle Bezug genommen wird.
Based on the design pattern matrix, solution elements can be developed that realize the product function by systematically utilizing manufacturing-induced properties.
Mittels der Design Pattern Matrix können Lösungselemente generiert werden, die die gewünschte Produktfunktion durch Nutzung verfahrensinduzierter Eigenschaften realisieren.
An apparatus as claimed in claim 1, 2 or 3 characterised by means for proportioning the aspect ratio parameter to the square root of (M/N) where M is the width in pixels and N is the height in pixels of the input pattern matrix.
Vorrichtung nach Anspruch 1, 2 oder 3, gekennzeichnet durch Einrichtungen, die den Seitenverhältnisparameter zur Quadratwurzel von (M/N) proportional machen, wobei M die Breite in Bildpunkten und N die Höhe in Bildpunkten der Eingangsmustermatrix sind.
The utilised models are compatible with the underlying models of a Design Pattern Matrix (DPM).
Die verwendeten Modelle sind dabei kompatibel mit den Modellen, die einer Design Pattern Matrix (DPM) zu-grunde liegen.
A graph-theoretic interpretation of a DAE allows the construction of an algorithm, which calculates this lower bound iteratively with the system's pattern matrix as its only input.
Aus einer graphentheoretischen Interpretation der DAE wird ein Algorithmus abgeleitet, der diese untere Schranke iterativ aus der Strukturmatrix des Systems berechnet.
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