Der Server ist als Open Source- und proprietäre Software erhältlich.
The server is available as open source and proprietary software.
Technologisch setzen wir auf aktuellste Open Source- und Enterprise Technologie.
We use the most up-to-date open source and enterprise technology.
Verschaffen Sie sich schnelleren Zugriff auf zahlreiche Open Source- und Partner-Innovationen.
Get fast, timely access to abundant open source and partner innovations.
Feldeffekttransistor mit einem Kondensator zwischen Source- und Drain-Elektroden.
Field effect transistor having capacitor between source and drain electrodes.
Halbleiterbauelement mit von Source- und/oder Drain-Gebieten umgebenen Anschlussflächen.
Semiconductor device with bonding pads surrounded by source and/or drain regions.
Source- und Drain-Bereich werden erst nach dem Erzeugen des Gates gebildet.
Source and drain region are formed once the gate has been produced.
Arbeiten mit kostenlosen Open Source- und kommerziellen Repositorys.
Working with free open source and commercial repositories.
Herstellungsverfahren von Kontakten zum Source- und Drainbereichen.
Method of forming contacts to source and drains regions.
Halbleiterbauelement mit tiefen Source- und Drainerweiterungen sowie Verfahren zu seiner Herstellung.
Semiconductor device with source and drain depth extenders and a method of making the same.
Außerdem unterliegen sowohl Source- als auch rückgewonnenes Plasma unseren strengen Qualitätskontrollstandards.
Furthermore, both source and recovered plasma are subject to our rigorous quality control standards.
Elektrisch löschbare und programmierbare Nur-Lese-Speicher mit Source- und Drain-Bereichen entlang Seitenwänden einer Grabenstruktur.
Electrically erasable and programmable read-only memory with source and drain regions along sidewalls of a trench structure.
Eine ungültige Source- oder Recordrouteoption wurde empfangen.\r
A malformed source or record route option was received.\r
Methode zur Bildung von Metallsilizidschichten auf Source- und Draingebiete
Method of forming metal silicide films on source and drain regions
