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Multipolelement
Multipol-Element
Multipole element as claimed in one of claims 1 to 9, characterised in that the mounting part (J) is of ring-shaped construction and made from a material which conducts a magnetic flux.
Multipolelement nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß der Halterungsteil (J) ringförmig ausgebildet ist und aus einem einen magnetischen Fluß führenden Material besteht.
Multipole element as claimed in one of claims 1 to 10, characterised in that the field-generating elements (PS, PS') are made from a weakly magnetic material.
Multipolelement nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß die felderzeugenden Elemente (PS, PS') aus einem weichmagnetischen Material bestehen.
Multipole element as claimed in one of claims 1 to 3, characterised by bar-shaped mounting elements (PH, PH').
Multipolelement nach einem der Ansprüche 1 bis 3, kennzeichnet durch stabförmige Halterungselemente (PH, PH').
Electrostatic corrector according to one of the preceding claims, characterised in that one and the same multipole element generates both a quadrupole field and an octopole field...
Elektrostatischer Korrektor nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß dasselbe Multipolelement sowohl ein Quadropolals auch ein Oktopolfeld erzeugt.
The charged particle beam device according to any of the preceding claims, wherein the multipole element comprises a magnetic quadrupole element (932,933, 934,935).
Die geladener-Teilchenstrahl-Vorrichtung gemäß einem beliebigen der vorangehenden Ansprüche, wobei das Multipol-Element ein magnetisches Quadrupol-Element (932,933, 934,935) umfasst.
The charged particle beam device according to any of the preceding claims, wherein the length of the field region of the element acting in a focusing and dispersive manner and the length of the field region of the multipole element are essentially similar.
Die geladener-Teilchenstrahl-Vornchtung gemäß einem beliebigen der vorangehenden Ansprüche, wobei die Länge des Feld-Bereichs des fokussierend und dispersiv wirkenden ersten Elements und die Länge des Feld-Bereichs des Multipol-Elements im Wesentlichen ähnlich sind.
The charged particle beam device according to any of the preceding claims, wherein the element acting in a focusing and dispersive manner and the multipole element are suitable for providing in the x-z- plane a normalized dispersion x k/l of at least 0.5.
Die geladener-Teilchenstrahl-Vorrichtung gemäß einem beliebigen der vorangehenden Ansprüche, wobei das fokussierend und dispersiv wirkende erste Element und das Multipol-Element geeignet sind, um in der x-z- Ebene eine normalisierte Dispersion x k/l von zumindest 0.5 zur Verfügung zu stellen.
Device according to one of Claims 2 to 6, characterized in that the inner poles (PI) of the magnetic multipole element (SAM) are at the second potential (U A).
Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die inneren Pole (PI) des magnetischen Multipolelements (SAM) auf dem zweiten Potential (U A) liegen.
A charged particles exposure apparatus as claimed in any of the Claims 1 to 11, characterized in that the multipole element comprises such a large number of poles that any desired image can be realised by choosing pairs of poles to be activated.
Ladungspartikel-Belichtungsgerät nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß das Mehrpolelement eine so große Anzahl von Polen besitzt, daß durch die Wahl zu aktivierender Polpaare jede gewünschte Abbildung erzeugt werden kann.
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