Examples with "Multipol-Elements" and their translation in Engels
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Die geladener-Teilchenstrahl-Vornchtung gemäß einem beliebigen der vorangehenden Ansprüche, wobei die Länge des Feld-Bereichs des fokussierend und dispersiv wirkenden ersten Elements und die Länge des Feld-Bereichs des Multipol-Elements im Wesentlichen ähnlich sind.
The charged particle beam device according to any of the preceding claims, wherein the length of the field region of the element acting in a focusing and dispersive manner and the length of the field region of the multipole element are essentially similar.
Andere resultaten
Die geladener-Teilchenstrahl-Vorrichtung gemäß einem beliebigen der vorangehenden Ansprüche, wobei das Multipol-Element ein magnetisches Quadrupol-Element (932,933, 934,935) umfasst.
The charged particle beam device according to any of the preceding claims, wherein the multipole element comprises a magnetic quadrupole element (932,933, 934,935).
Elektronenstrahlvorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Elektronenstrahlvorrichtung ein Korrekturelement umfaßt, das ein Multipol-Element zur Korrektur der chromatischen Aberration enthält.
An electron beam apparatus as claimed in Claim 7, characterized in that the electron beam apparatus comprises a correction member which includes a multi-pole element for correction of chromatic aberration.
Die geladener-Teilchenstrahl-Vorrichtung gemäß einem beliebigen der vorangehenden Ansprüche, wobei das fokussierend und dispersiv wirkende erste Element und das Multipol-Element geeignet sind, um in der x-z- Ebene eine normalisierte Dispersion x k/l von zumindest 0.5 zur Verfügung zu stellen.
The charged particle beam device according to any of the preceding claims, wherein the element acting in a focusing and dispersive manner and the multipole element are suitable for providing in the x-z- plane a normalized dispersion x k/l of at least 0.5.
Apparat nach einem der voranstehenden Ansprüche, wobei das Strahlungssystem weiterhin eine Excimer-Laserquelle umfasst und wobei das Multipol-Modus erzeugende Element in den kollimierten Strahlungspfad der Quelle angeordnet werden kann.
An apparatus according to any one of the preceding claims, wherein the radiation system further comprises an excimer laser source, and wherein the multipole mode generating element is locatable in the collimated beam path of the source.
Apparat nach einem der voranstehenden Ansprüche, weiterhin dadurch gekennzeichnet, dass das Multipol-Modus erzeugende Element nahe bei dem Eingang des Lichtleiters (26) angeordnet ist.
An apparatus according to any one of the preceding claims, further characterized in that the multipole mode generating element is disposed adjacent to the light pipe (26) entrance.
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