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RF power source
Vertaling van "RF power source" in Duits
HF-Stromquelle
HF-Energiequelle
HF-Leistungsquelle
RF-Energiequelle
A method as claimed in any one of the preceding claims, wherein the electrode separation within the chamber is controlled with respect to said pressure and first RF power source.
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, worin der Elektrodenabstand innerhalb der Kammer in bezug auf genannten Druck und die erste HF-Stromquelle gesteuert wird.
A reactor as claimed in claim 10, wherein at least one of the frequency and voltage of said second RF power source (9,10) is variable.
Ein Reaktor nach Anspruch 10, worin mindestens eine der Frequenz und Spannung der genannten zweiten HF-Stromquelle (9, 10) variabel ist.
A plasma etch reactor chamber as claimed in Claim 25, characterised in that said RF power source is connected to said top winding of said side section and wherein each of said ends of said coil inductor are grounded.
Plasmaätzreaktorkammer nach Anspruch 25, dadurch gekennzeichnet, daß die HF-Energiequelle mit der oberen Wicklung des Seitenteils verbunden ist, wobei die Enden der Induktionsspule jeweils geerdet sind.
The plasma reactor of Claim 3 wherein the location of said movable RF connector and the reactance of said reactive component provide an initial RF match of said variable frequency RF power source (26).
Plasmareaktor nach Anspruch 3, bei dem die Anordnung der beweglichen HF-Verbindung und der Blindwiderstand des Blindelements eine anfängliche HF-Abstimmung der HF-Energiequelle mit veränderlicher Frequenz erzeugen.
A reactor as claimed in either of claims 9 or 10, further including a second RF power source (9,10) connected between said first and second electrodes (1,2).
Ein Reaktor nach einem der Ansprüche 9 oder 10, der weiter eine zweite HF-Stromquelle (9, 10) einbezieht, die an die ersten und zweiten Elektroden (1, 2) angeschlossen ist.
A method as claimed in either of claims 1, 2 or 3, comprising the further step of monitoring an RF current between the first and second electrodes whilst adjusting at least one of said pressure, said first RF power source and said electrode separation.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1, 2 oder 3, das den weiteren Schritt der Überwachung eines HF-Stroms zwischen den ersten und zweiten Elektroden umfaßt, während es mindestens einen des genannten Drucks, genannte erste HF-Stromquelle und genannten Elektrodenabstand justiert.
A method as claimed in any one of the preceding claims, further comprising connecting a second RF power source between said first and second electrodes and superposing the second RF power source on the first RF power source.
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, das weiter das Anschließen einer zweiten HF-Stromquelle zwischen genannten ersten und zweiten Elektroden umfaßt und die zweite HF-Stromquelle auf die erste HF-Stromquelle überlagert.
A laser system as claimed in any of the preceding claims further comprising a phase shifter (70) connected between the RF power source and the mixer.
Lasersystem, wie in irgendeinem der vorhergehenden Ansprüche beansprucht, das des weiteren eine Phasenverschiebungseinrichtung (70) beinhaltet, die zwischen die HF-Leistungsquelle und den Mischer eingeschleift ist.
An apparatus according to claim 1, wherein the RF power source (1) comprises a current inverter circuit.
Vorrichtung nach Anspruch 1, bei dem die Hochfrequenz-Spannungsquelle (1) eine Stromwechselrichterschaltung aufweist.
The apparatus of claim 24, wherein the switching device includes one of a multiplexing device or a multiplexing device coupled to an RF power source. The apparatus of claim 19, wherein the electrode is configured to be capacitively coupled to the skin.
Vorrichtung nach Anspruch 24, wobei die Schaltvorrichtung eine unter einer Multiplexvorrichtung oder einer mit einer RF-Energiequelle verbundenen Multiplexvorrichtung umfaßt. Vorrichtung nach Anspruch 19, wobei die Elektrode so konfiguriert ist, daß sie kapazitiv mit der Haut verbindbar ist.
An electrosurgical system according to claim 11, wherein the controller and the RF power source arc operable together to limit the peak RF output voltage to a first predetermined threshold when delivering the cutting RF waveform and to a second predetermined threshold when delivering the coagulating RF waveform.
Elektrochirurgisches System nach Anspruch 11, wobei der Kontroller und die HF-Leistungsquelle gemeinsam betrieben werden können, um die HF-Ausgangsspitzenspannung bei Abgabe der schneidenden HF-Wellenform auf einen ersten vorbestimmten Schwellenwert und bei Abgabe der koagulierenden HF-Wellenform auf einen zweiten vorbestimmten Schwellenwert zu begrenzen.
A plasma processing system comprising: a plasma chamber; an RF matching circuit for matching an RF power source to said plasma chamber, said RF matching circuit comprising
Plasmaverarbeitungssystem mit: einer Plasmakammer, einer HF-Anpassungsschaltung zum Anpassen einer HF-Leistungsquelle an die Plasmakammer, wobei die HF-Anpassungsschaltung enthält
The apparatus of claim 21, further comprising: an RF power supply electronically coupled to the RF electrode; and a ground pad electrode positioned on the skin and electronically coupled to the RF power source and the RF electrode.
Vorrichtung nach Anspruch 21, die des weiteren eine RF-Energiezufuhr, die elektronisch mit der RF-Elektrode verbunden ist, und eine plattenförmige Masseelektrode, die auf der Haut angebracht ist und die elektronisch mit der RF-Energiequelle und der RF-Elektrode verbunden ist.
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Synoniemen voor RF power source in het Engels
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