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The optical mask according to claims 1 to 4, wherein the optical phase structure is formed on a transparent layer covering the light absorber pattern.
Optische Maske nach den Ansprüchen 1 bis 4, bei der die optische Phasenstruktur auf einer transparenten Schicht, die das Lichtabsorptionsmuster bedeckt, ausgebildet ist.
The method according to claim 1, characterized by further comprising step (f) of plasma doping the top and sides of the X-ray absorber pattern after step (c).
Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß nach Durchführung der Stufe (c) in einer zusätzlichen Stufe (f) eine Plasmadotierung der Oberseite und der Seiten des Absorptionsmusters für Röntgenstrahlen erfolgt.
The method according to claim 1, characterized in that the patterning is carried out by reactive plasma etching using an etching gas that contains a gas reactive with said X-ray absorber, thereby forming a gas infiltration-preventing film in the surface of the said X-ray absorber pattern.
Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Mustergebung durch reaktive Plasmaätzung unter Verwendung eines Ätzgases, welches ein mit dem Absorptionsmittel für Röntgenstrahlen reaktionsfähiges Gas enthält, erfolgt, um in der Oberfläche des Absorptionsmusters für Röntgenstrahlen einen eine Gasinfiltration verhindernden Film zu bilden.
The method for manufacturing an X-ray mask structure according to claim 16, which has a process in which the surface of the X-ray absorber pattern is subjected to an oxidation treatment.
Verfahren zum Herstellen einer Röntgenstrahlmaskenstruktur nach Anspruch 16, umfassend einen Prozeß, bei dem die Oberfläche des Röntgenstrahlabsorbermusters einer Oxidationsbehandlung unterzogen wird.
A method for manufacturing an X-ray mask structure according to claim 16 or 18, comprising further a process for forming a metal film on the X-ray permeable film, and a process for forming an X-ray absorber pattern on the metal film.
Verfahren zum Herstellen einer Röntgenstrahlmaskenstruktur nach Anspruch 16 oder 18, umfassend weiterhin einen Prozeß zur Ausbildung eines Metallfilms auf dem röntgenstrahldurchlässigen Film, und einen Prozeß zur Ausbildung eines Röntgenstrahlabsorbermusters auf dem Metallfilm.
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