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etch step
Vertaling van "etch step" in Duits
Ätzschritt
Ätzstufe
Ionenstrahlätzschritts
The thickness of silica that is removed in this etch step is relatively large, i.e. a few microns.
Das Silizium, das in diesem Ätzschritt entfernt wird, weist eine relativ große Dicke auf, d. h. einige Mikrometer.
A method according to claim 2 wherein the etch step is selected to completely remove the portion of second insulating layer overlying the elevated region before the portion of the second insulating layer within the recessed region is exposed.
Verfahren nach Anspruch 2, wobei der Ätzschritt so gewählt wird, dass der Abschnitt der zweiten Isolierschicht, der über der erhabenen Region liegt, vollständig entfernt wird, bevor der Abschnitt der zweiten Isolierschicht innerhalb der eingetieften Region freigelegt wird.
The inventors' method overcame the problem by using a fluorocarbon-based plasma to deposit an etch-resistant layer before taking a subsequent etch step.
Das Verfahren der Erfinder löste das Problem durch den Einsatz eines Fluorkohlenstoff-basierten Plasmas zum Abscheiden einer ätzresistenten Schutzschicht vor Durchführung einer nachfolgenden Ätzstufe.
Laermer's method overcame the problem by using a fluorocarbon-based plasma to deposit an etch-resistant layer before taking a subsequent etch step.
Das Verfahren von Lärmer löste das Problem durch den Einsatz eines Fluorkohlenstoff-basierten Plasmas zum Abscheiden einer ätzresistenten Schutzschicht vor Durchführung einer nachfolgenden Ätzstufe.
The step on the etching during the polymerization deposited polymer layer may proceed at the etching base during the subsequent etch step quickly broken, since the polymer is removed very rapidly with the ion assistance and the chemical reaction of the reactive plasma species with the silicon.
Die auf dem Ätzgrund während des Polymerisations schrittes aufgebrachte Polymerschicht wird während des darauffolgenden Ätzschrittes rasch durch brochen, da das Polymer mit der Ionenunterstützung sehr schnell abgetragen wird und die chemische Umsetzung der reaktiven Plasmaspezies mit dem Silicium am Ätzgrund voranschreiten kann.
A method according to claims 6 to 9 wherein the contact hole (76) is formed in a single etch step in which silicon is unetched.
Verfahren nach einem der Ansprüche 6 bis 9, bei welchem das Kontaktloch (76) in einem einzelnen Ätzschritt gebildet wird, bei welchem Silizium nicht geätzt wird.
The method of any preceding claim wherein the metal oxide layer (24) acts as an etch step during the step of etching the insulating layer (26).
Verfahren nach irgendeinem vorhergehenden Patentanspruch, bei welchem die Metalloxidschicht (24) als ein Ätzschritt während des Schritts des Ätzens der Isolierschicht (26) wirkt.
The method of claim 8 wherein: said etch step (a) is performed in a vacuum; and said rinse steps (b) and (d) are performed at about atmospheric pressure.
Verfahren nach Anspruch 8, bei dem der Ätzschritt (a) im Vakuum durchgeführt wird und die Spülschritte (b) und (d) ungefähr bei atmosphärischem Druck durchgeführt werden.
A method according to claim 1 wherein the steps (f) and (g) are performed in a single etch step, selected such that the second insulating layer is etched at a faster rate than the third insulating layer or the first insulating layer.
Verfahren nach Anspruch 1, wobei die Schritte (f) und (g) in einem einzigen Ätzschritt durchgeführt werden, der so ausgewählt wird, dass die zweite Isolierschicht mit einer höheren Rate geätzt wird als die dritte Isolierschicht oder die erste Isolierschicht.
To minimize these overetching problems, better process control is needed to accurately detect when the etch step is complete, resulting in less undercut and leaving the critical dimension (CD) of the feature (line or bump) unaffected.
Um diese Probleme bei der Überätzung zu minimieren, ist eine bessere Prozesskontrolle erforderlich, um genau zu erkennen, wann der Ätzschritt abgeschlossen ist, was zu weniger Undercut führt und die kritische Dimension (CD) des Features (Linie oder Bump) beibehält.
With a locally grown epitaxial silicon layer on top of the grating coupler 1.7dB coupling loss were achieved, which was shown by simulations could be further improved by making use of a second grating etch step to the otherwise uniform grating.
Mit einer lokal auf dem Gitterkoppler gewachsenen epitaktischen Siliziumschicht werden 1.7dB Verlust erzielt, der weiter verringert werden kann, wenn - wie durch Simulationen gezeigt - ein zweiter Ätzschritt dem ansonsten uniformen Gitter hinzugefügt wird.
The method according to Claims 2 to 3 wherein said lower moats are etched to terminate within said second layer a sufficient distance from said first and second layer interface so as not to be exposed by said electrochemical etch step.
Verfahren nach Anspruch 2 bis 3, wobei die niedrigeren Gräben so geätzt werden, daß sie innerhalb der zweiten Schicht, in genügender Entfernung von der Grenzfläche der ersten und zweiten Schicht enden, so daß sie nicht durch den elektrochemischen Ätzschritt freigelegt werden.
A process as claimed in any one of Claims 16-21, characterised in that said second selective etch step etches said silicon dioxide at a rate of at least about 10 times that of said silicon and said polysilicon.
Verfahren nach einem der Ansprüche 16-21, dadurch gekennzeichnet, daß der zweite, selektive Ätzschritt das Siliziumdioxid mit einer Geschwindigkeit ätzt, die wenigstens ungefähr das 10-fache derjenigen für Silizium und Polysilizium beträgt.
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Synoniemen voor etch step in het Engels
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