In general, a mask layer of a photoresist layer may be made or prepared from these, which is patterned by a lithographic process. bilden.
Im Allgemeinen kann eine Maskenschicht aus einer Schicht aus Photolack bestehen oder aus dieser hergestellt werden, die mittels eines lithographischen Prozesses strukturiert wird.
The method as defined in claim 4 wherein the resist pattern is developed with an organic solvent and said mask layer is patterned by dry etching.
Verfahren nach Anspruch 4, wobei die Resiststruktur mit einem organischen Lösungsmittel entwickelt wird und die Maskenschicht durch einen Trockenätzvorgang strukturiert wird.
Create a new layer anywhere below the mask layer.
Erstellen Sie eine neue Ebene an einer beliebigen Position unterhalb der Maskenebene.
Drag an existing layer directly below the mask layer.
Ziehen Sie eine vorhandene Ebene an die Position direkt unterhalb der Maskenebene.
A method as claimed in claim 1, characterized in that the first and the second mask layer of resist are removed with an isotropic etch.
Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die erste und die zweite Maskierungsschicht aus Photolack bei einer isotropen Ätzung entfernt werden.
The method according to claim 1 wherein the step of forming said second mask layer (32) comprises growing said layer by thermal oxidation of said wafer material.
Verfahren nach Anspruch 8, worin die Stufe des Ausbildens der zweiten Maskierungsschicht (32) das Aufwachsen dieser Schicht durch thermische Oxidation des Scheibenmaterials umfaßt.
A mask layer can contain only one mask item.
Eine Maskenebene kann nur ein einziges Maskenelement enthalten.
Remove the mask layer and add it again.
Entfernen Sie die Maskenebene und fügen Sie sie erneut hinzu.
The mask layer reveals the area of linked layers beneath the filled shape.
Die Maskenebene definiert die Ansicht der verknüpften Ebenen unter der ausgefüllten Form.
This is accomplished by separating the images into a foreground, background and a mask layer.
Dies wird durch die Trennung der Bilder in einen Vordergrund, einen Hintergrund und eine Maskenebene erreicht.
This feature is useful for frames that include a bitmap image, gradients, transparency, or a mask layer.
Dies ist bei Bildern hilfreich, die Bitmapgrafiken, Farbverläufe, Transparenz oder Maskenebenen enthalten.
Animate ignores bitmaps, gradients, transparency, colors, and line styles in a mask layer.
Bitmaps, Farbverläufe, Transparenz, Farben und Linientypen auf einer Maskenebene werden von Animate ignoriert.
Animate a filled shape, type object, or graphic symbol instance on a mask layer
Animieren einer gefüllten Form, eines Textobjekts oder einer Grafiksymbolinstanz auf einer Maskenebene