Examples with "p-impurity diffusion source" and their translation in Duits
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A method as claimed in claim 11, wherein the p-impurity is Zn and the p-impurity diffusion source is InP(Zn), InAsP(Zn) or InGaAsP(Zn).
The use of polycide or silicide as diffusion source and as terminal for the emitter makes smaller emitter widths possible.
Durch die Verwendung des Polyzids oder Silizids als Diffusionsquelle und als Anschluß für den Emitter sind kleinere Emitterweiten möglich.
In the HAL process, neodymium magnets are heat-treated at relatively low temperatures after the dysprosium diffusion source is applied to the surfaces of the sintered neodymium magnet substrates.
Im HAL-Verfahren wird eine Dy-Diffusionsquelle auf die Oberfläche des gesinterten Neodym-Magnetsubstrats aufgebracht und der Magnet anschließend bei relativ niedrigen Temperaturen wärmebehandelt.
The apparatus according to any previous claim, wherein said semiconductor substrate comprises a liquid or solid based diffusion source material, said diffusion source material including said organic components.
Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, in der das Halbleitersubstrat ein auf einer Flüssigkeit oder einem Festkörper basierendes Diffusionsquellmaterial aufweist, wobei das Diffusionsquellmaterial die organischen Komponenten beinhaltet.
The globally active SCHMID Group's APCVD system can apply boron and phosphorus diffusion sources in varying thicknesses and concentrations to provide flexibility in the design of modern emitters on all base materials.
Die Anlage der weltweit tätigen Unternehmensgruppe kann Bor- und Phosphor-Diffusionsquellen in unterschiedlicher Dicke und Konzentration aufbringen und bietet damit größmögliche Flexibiltät im Design moderner Emitter auf allen Basismaterialen.
A method according to claim 1, wherein said doped polysilicon layer is used as a diffusion source for forming said diffused region.
Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die dotierte polykristallien Siliziumschicht als eine Diffusionsquelle für die Bildung der erwähnten diffundierten Zone verwendet wird.
A method claimed in Claim 18 wherein the the second oxide superconductor thin film is etched back until the diffusion source layer is exposed.
Verfahren nach Anspruch 18, bei dem der zweite Oxid-Supraleiter-Dünnfilm zurückgeätzt wird, bis die eindiffundierte Source-Schicht offenliegt.
A doped layer (11) suitable as a diffusion source is applied over the entire surface.
Es wird ganzflächig eine als Diffusionsquelle geeignete dotierte Schicht (11) aufgebracht.
A fabricating method according to claim 9, wherein the transparent conductive film is heat treated for diffusing the phosphorus thereinto from a diffusion source containing phosphorus.
Herstellungsverfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß der transparente, leitende Film wärmebehandelt wird, um den Phosphor in diesen von einer phosphorhaltigen Diffusionsquelle einzudiffundieren.
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