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plasma processing step
Vertaling van "plasma processing step" in Duits
Plasmaverarbeitungsschritt
A method according to claim 1, wherein the discharge beginning step, the adjustment step, and the plasma processing step are automatically performed in an order named.
Verfahren nach Anspruch 1, wobei der Entladungsstartschritt, der Justierungsschritt und der Plasmaverarbeitungsschritt automatisch in der genannten Reihenfolge durchgeführt werden.
A method according to claim 1, further comprising when disappearance of plasma discharge is detected in the plasma processing step, setting said impedance matching circuit in an initial state, and returning to the discharge beginning step again.
Verfahren nach Anspruch 1, wobei ferner umfaßt ist, daß, wenn ein Verschwinden der Plasmaentladung in dem Plasmaverarbeitungsschritt detektiert wird, die Impedanzanpassungsschaltung in einen Anfangszustand gesetzt wird und erneut zu dem Entladungsstartschritt zurückgekehrt wird.
An apparatus according to claim 14, wherein when said impedance matching circuit is an initial state, the state is set to the state in which a reflected power of the second high-frequency power takes a minimum value in the plasma processing step.
Vorrichtung nach Anspruch 14, wobei die Impedanzanpassungsschaltung ein Anfangszustand ist, wobei der Zustand in den Zustand gesetzt ist, bei dem eine reflektierte Leistung der zweiten Hochfrequenzleistung einen Minimalwert in dem Plasmaverarbeitungsschritt einnimmt.
An apparatus according to claim 14, further comprising means for controlling the magnitude of the second high-frequency power supplied in the discharge beginning step to be not more than 10% of the magnitude of the second high-frequency power supplied in the plasma processing step.
Vorrichtung nach Anspruch 14, ferner mit Mitteln zum Steuern der Größe der in dem Entladungsstartschritt zugeführten zweiten Hochfrequenzleistung, um auf nicht mehr als 10% der Größe der in dem Plasmaverarbeitungsschritt zugeführten zweiten Hochfrequenzleistung zu sein.
The coated dielectric substrate (104) is then subjected to a reactive high-frequency plasma processing step in another station (105).
Danach wird das beschichtete dielektrische Substrat (104) einem reaktiven Hochfrequenzplasma-Behandlungsschritt in einer Station (105) unterzogen.
Synoniemen voor plasma processing step in het Engels
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Afbeelding van de dag
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