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resist composition comprising
Vertaling van "resist composition comprising" in Duits
Resist-Zusammensetzung, umfassend
A positive resist composition comprising 1,2,3-trihydroxy-4-(4-hydroxy-2,5-dimethylbenzyl)benzene.
Positiv arbeitende Resistzusammensetzung, umfassend 1,2,3-Trihydroxy-4-(4-hydroxy-2,5-dimethylbenzyl)benzol.
A method for forming a resist pattern by using the halogen-containing polyacrylate derivative of any one of claims 1 to 3. A resist composition comprising the solution of the halogen-containing polyacrylate derivative of any one of claims 1 to 3 in a diluent.
Verfahren zur Bildung eines Resistmusters unter Verwendung des Halogen enthaltenden Polyacrylatderivats nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 3. Resistzusammensetzung, umfassend die Lösung des Halogen enthaltenden Polyacrylatderivats nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 3 in einem Verdünnungsmittel.
A positive resist composition comprising, in admixture, an alkali-soluble resin, a quinone diazide compound and a mixed solvent of (B) γ-butyrolactone or cyclohexanone and (A) 2-heptanone.
Positiv arbeitende Resistzusammensetzung, umfassend als Gemisch ein alkalilösliches Harz, eine Chinondiazidverbindung und ein Lösungsmittelgemisch aus (B) γ-Butyrolacton oder Cyclohexanon und (A) 2-Heptanon.
A radiation sensitive resist composition comprising: (i) bis (lower alkyl phenyl) iodonium camphorsulfonate; and (ii) a copolymer comprising hydroxystyrene and acrylate or methacrylate having an acid cleavable substituent.
Strahlungsempfindliche Resistzusammensetzung, enthaltend: (i) Bis(niedrigeres Alkylphenyl)iodoniumcamphersulfonat und (ii) ein Copolymer, enthaltend Hydroxystyrol und Acrylat oder Methacrylat, das einen säurespaltbaren Substituenten aufweist.
A photosensitive resist composition comprising (i) a photosensitive base generator, (ii) a polymer and (iii) a base labile compound having a base cleavable substituent.
Eine lichtempfindliche Resist-Zusammensetzung, enthaltend (i) einen lichtempfindlichen Basengenerator, (ii) ein Polymer und (iii) eine Basen-instabile Verbindung mit einem Basen-spaltbaren Substituenten.
Positive resist composition comprising a dipyridyl compound
Positive-Resistzusammensetzung, die eine Dipyridylverbindung enthält
A chemically amplified positive resist composition comprising (A) organic solvent, (B) base resin in the form of a polymer of any one of claims 1 to 9, and (C) photoacid generator.
Chemisch verstärkte positive Resistzusammensetzung, umfassend (A) ein organisches Lösungsmittel, (B) ein Basisharz in Form eines Polymers nach einem der Ansprüche 1 bis 9 und (C) einen Photosäurebildner.
A chemical amplification type positive resist composition comprising a resin having a butyrolactone residue which may be optionally substituted with an alkyl group and a group capable of cleaving by action of an acid, and an acid generator.
Positiv arbeitende Resistzusammensetzung des chemischen Verstärkungstyps, umfassend ein Harz mit einem Butyrolactonrest, der gegebenenfalls mit einem Alkylrest substituiert sein kann, und einem durch Wirkung einer Säure abspaltbaren Rest und einen Säuregenerator.
A positive photo resist composition comprising (A) a resin which is converted to alkali-soluble from alkali-insoluble or alkali-slightly soluble by the action of an acid, (B) an acid generator, and (C) N-phenyldiethanolamine.
Positiv arbeitende Photoresistzusammensetzung, umfassend (A) ein Harz, das durch die Wirkung einer Säure von alkaliunlöslich oder geringfügig alkalilöslich in alkalilöslich umgewandelt wird, (B) einen Säurebildner, und (C) N-Phenyldiethanolamin.
A resist composition comprising the polymer of claim 2, 3 or 4. A resist composition comprising the polymer of claim 2, 3 or 4, a photoacid generator, and an organic solvent.
Resist-Zusammensetzung, umfassend ein Polymer nach Anspruch 2, 3 oder 4. Resist-Zusammensetzung, umfassend ein Polymer nach Anspruch 2, 3 oder 4, einen Photosäure-Bildner und ein organisches Lösungsmittel.
Polyhydric phenol compound and positive resist composition comprising the same.
Polyhydrisches Phenolderivat und dieses enthaltende Positivresistzusammensetzung.
A positive resist composition comprising a resin and in an amount sufficient to sensitize it to radiation, an ester as claimed in claim 1. A composition as claimed in claim 2 wherein the resin is a phenolic resin.
Positivresistzusammensetsung, welche ein Harz enthält sowie, in einer Menge, die ausreicht, um es für Strahlung zu sensitivieren, einen Ester nach Anspruch 1. Zusammensetzung nach Anspruch 2, bei welcher das Harz ein Phenolharz ist.
Synoniemen voor resist composition comprising in het Engels
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