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der Musterdaten
A method in accordance with claim 2, wherein the existence of said combination pattern boundary in said original images is detected at which every combination signal of said pattern data is one of possible states.
Ein Verfahren nach Anspruch 2, wobei das Vorhandensein der Kombinationsmustergrenze in den Vorlagebildern erkannt wird, bei dem jedes Kombinationssignal der Musterdaten eines der möglichen Zustände ist.
An apparatus in accordance with claim 8, wherein said boundary detection means concludes that said combination pattern boundary exists in said original images when every combination signal of said pattern data is one of possible states.
Eine Vorrichtung nach Anspruch 8, wobei das Grenzerkennungsmittel schlußfolgert, daß die Kombinationsgrenze in den Vorlagebildern vorliegt, wenn jedes Kombinationssignal der Musterdaten eines von möglichen Zuständen ist.
An apparatus according to Claim 21 or Claim 22, wherein said computer (10; 12) includes a source for storing pattern data, said host computer (12) having means for fetching said pattern data from said source.
Vorrichtung nach Anspruch 21 oder 22, bei der der Rechner (10; 12) eine Quelle zum Speichern von Musterdaten aufweist, wobei der Hauptrechner (12) Einrichtungen zum Abrufen der Musterdaten aus der Quelle umfaßt.
The method according to any of claims 14 to 21, wherein the pattern data is stored in a data buffer during said pattern data storing step.
Verfahren nach einem der Ansprüche 14 bis 21, wobei die Musterdaten während des Musterdaten-Speicherschritts in einem Datenpuffer gespeichert werden.
The method according to claim 14 or 15, wherein the number of bits per pixel of said data related to colour or tone is greater than the number of bits per pixel of said pattern data.
Verfahren nach Anspruch 14 oder 15, wobei die Anzahl an Bits pro Pixel der Daten für Farbe oder Ton größer als die Anzahl an Bits pro Pixel der genannten Musterdaten ist.
An arrangement according to any preceding claim, further characterised by a clothing manufacturing facility, adapted to receive from said controller said pattern data and to produce said made to order clothing therefrom.
Anordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, weiterhin dadurch gekennzeichnet, dass eine Anordnung zum Fertigen von Kleidung geeignet ist, von der Steuerung die Musterdaten zu empfangen und davon die Auftragskleidung zu fertigen.
The method as claimed in Claim 13 further comprising the steps of: providing in said at least one parent trie table entry a skip count of n strides; and encoding said skip count of n strides in said pattern data field of said first trie table entry.
Verfahren nach Anspruch 13, das ferner die folgenden Schritte umfasst: Vorsehen eines Skip-Count von n Schritten in dem wenigstens einen Eltern-Trie-Tabelleneintrag; und Codieren des Skip-Count von n Schritten in dem Musterdatenfeld des ersten Trie-Tabelleneintrags.
The heating device of Claim 7, comprising a memory (230), wherein said addressing device (220) is configured to receive pattern data from said memory (230) and to produce said output in accordance with said pattern data.
Erhitzungsvorrichtung nach Anspruch 7, mit einem Speicher (230), wobei die genannte Adressierungsanordnung (220) vorgesehen ist zum Empfangen von Musterdaten von dem genannten Speicher (230) und zum Erzeugen des genannten Ausgangssignals entsprechend den genannten Musterdaten.
A method according to Claim 12, wherein said pattern data from said corresponding areas of said pattern is combined by mixing said pattern data in proportions defined by said multi-valued data having gradation.
Verfahren nach Anspruch 12, wobei die Musterdaten von den entsprechenden Bereichen des Musters durch Mischen der Musterdaten in Verhältnissen kombiniert werden, die durch die mehrfach wertigen Daten, die eine Gradation haben, definiert sind.
A charged particle beam lithography system according to Claim 1, wherein said pattern data control circuit comprises a single pattern data memory (3) and a pattern generator (4).
Einen Strahl geladener Teilchen verwendendes Lithographiesystem nach Anspruch 1, wobei die Musterdatensteuerungsschaltung einen Einzelmusterdatenspeicher (3) und einen Mustergenerator (4) aufweist.
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