The invention also relates to a method for producing a sputtering target.
Desweiteren betrifft die Erfindung Herstellverfahren für ein Sputtertarget.
Fine grained sputtering target with a given width-thickness ratio and process for its manufacture
Feinkörniges Sputtertarget mit einem vorgegebenen Breiten- zu Dickenverhältnis sowie Verfahren zu seiner Herstellung
The above referred niobium sputtering target is one of our company's main products, stable in quality and cheap in price.
Das oben genannten Niob Sputter-Target, eines der wichtigsten Produkte unserer Firma, ist in der Qualität stabil und günstig im Preis.
The sputtering target according to claim 6, comprising a planar area of 1 m 2 or more.
Sputter-Target nach Anspruch 6 mit einer Planfläche von 1 m 2 oder mehr.
Highly purified metal material and sputtering target using the same.
Hochreine Metalle, Herstellungsverfahren und Verwendung als Zerstäubungstarget.
Optical recording medium, manufacturing method of the same, and sputtering target
Optisches Aufzeichnungsmedium, Verfahren zur Herstellung desselben und Zerstäubungstarget
Tantalum tube is also normally used as tantalum tubular sputtering target for semiconductor industry.
Tantalrohr wird auch üblicherweise als Tantalrohr Sputtertarget für die Halbleiterindustrie eingesetzt.
Tilted sputtering target with shield to block contaminants
Geneigtes Zerstäubungstarget mit Schild zum Auffangen von Kontaminierungsteilchen
Highly purified metal and sputtering target using the same
Hochreine Metalle und deren Verwendung als Sputtertarget
Cylindrical sputtering target and process for its manufacture
Zylinderförmiges Sputtertarget und Verfahren zu seiner Herstellung
Nickel/vanadium sputtering target with ultra-low alpha emission
Nickel/Vanadium Zerstäubungstarget mit einer sehr niedrigen alpha Emission
Silicon alloy sputtering target and method for its fabrication.
Sputtertarget aus einer Siliziumlegierung und Verfahren zur Herstellung eines Sputtertargets
The method of claim 19 wherein said source is a sputtering target or an evaporation pellet.
Verfahren nach Anspruch 19, wobei die Quelle aus einem Sputtertarget oder einem Aufdampfpellet besteht.
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