A hard mask on top of the gate stack is formed.
An off-set spacer is formed surrounding the gate stack.
A wet etch process is performed on the gate stack.
Subsequent fabrication techniques were used to define the gate stack.
thermally oxidizing side walls of the gate stack
a structure and fabrication method for a gate stack used to define source/drain regions in a semiconductor substrate
structure et procédé de fabrication d'une pile de grille servant à définir des régions source/drain dans un substrat semi-conducteur
The gate stack is located on the semiconductor substrate.
L'empilement de grille se situe sur le substrat semi-conducteur.
A gate stack is disposed above the substrate, over the channel region.
Un empilement de grille est disposé au-dessus du substrat, sur la zone de canal.
forming a gate stack against the side wall of the higher step
à former un empilement de grilles contre la paroi latérale du niveau supérieur
The pattern exposes at least a portion of the gate stack and source/drain.
Le motif expose au moins une partie de l'empilement de grilles et/ou de la zone source/drain.
forming spacers on either side of the gate stack
à former des espaceurs sur les deux côtés de l'empilement de grilles
The first dopant diffuses toward an interface between the gate stack and the semiconductor body.
Ce premier dopant se diffuse vers une interface entre l'empilement de grilles et le semi-conducteur.
In an embodiment, the semiconductor device comprises a gate stack on a substrate.
Dans un mode de réalisation, le dispositif à semi-conducteur comprend un empilement de grilles sur un substrat.