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particular types of distortion within a lithographic system may be characterized by linewidth control parameters
on peut caractériser des types particulier de distorsion dans un système lithographique par des paramètres de contrôle de largeur de ligne
The inventive method prevents the losses of linewidth control, and avoids the pattern degradation due to undesirably many pinholes, of previous such methods.
Le procédé de l'invention empêche les pertes de commande de largeur de ligne et évite la dégradation du dessin dues aux nombreuses piqûres indésirables qui sont fréquentes avec les procédés utilisés antérieurement.
The second dielectric cap layer improves linewidth control for the support devices and the array devices.
La seconde couche du couvercle diélectrique permet d'améliorer la gestion de la largeur de ligne pour les dispositifs supports et les dispositifs réseaux.
The instant invention uses focus offset coefficients to change the focus at points within a slot to compensate for the linewidth control parameter variations introduced by the factors contributing to such variations.
Cette invention utilise des coefficients de décalage de focalisation pour modifier la focalisation à des points situés dans une fente de façon à compenser les variations de paramètre de contrôle de largeur de ligne introduites par les facteurs contribuant à ces variations.
Two separate gate conductor lithography steps and gate conductor dielectric etches are carried out in the present invention to optimize the gate conductor linewidth control in the array and support device regions.
On réalise la lithogravure du conducteur de grille et les attaques chimiques du diélectrique du conducteur de grille en deux opérations distinctes, ce qui permet d'optimiser la gestion de la largeur de ligne du conducteur de grille dans les zones réseaux et supports.
The present invention relates to precision linewidth control and frequency measurements of continuous wave lasers for the near to far IR spectral regions, precision frequency synthesizers and exemplary applications in molecular detection.
La présente invention concerne le contrôle de largeur spectrale et les mesures de fréquence de précision de lasers à onde entretenue pour les zones spectrales IR proches à lointaines, des synthétiseurs de fréquence de précision et des applications d'exemple dans la détection moléculaire.
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