The pellicle and reticle may be used in a lithography system.
Disclosed is a technology for a lithography system.
lithography system with device for exposing the periphery of a wafer
kinematic lens mount with reduced clamping force and lithography system
In one embodiment the present invention includes a direct-write laser lithography system.
Un mode de réalisation de la présente invention concerne un système de lithographie au laser à écriture directe.
The invention further relates to a lithography system comprising such a support structure.
L'invention porte également sur un système de lithographie comprenant une telle structure de support.
liquid immersion lithography system comprising a tilted showerhead
système de lithographie à immersion liquide comprenant une pomme d'arrosoir inclinée
lithography system, method of clamping and wafer table
système de lithographie, méthode de fixation, et table support de tranches
Thermophoretic protection can be maintained throughout a reticle's use in a lithography system.
Cette protection thermophorétique peut être maintenue sur une durée d'utilisation de réticule dans un système lithographique.
A removable cover for protecting a reticle used in a lithography system is described.
L'invention concerne un couvercle amovible destiné à protéger un réticule utilisé dans un système lithographique.
It is an example of the type of nanostructure that can be etched with the electron beam lithography system.
C'est un exemple du type de nanostructure qui peut être repéré avec le système de lithographie de faisceau d'électrons.
An electron beam lithography system having higher throughput than conventional single beam systems is one result.
Il en résulte un système de lithographie à faisceaux électroniques multiples doté d'une capacité supérieure à celle des systèmes à un seul faisceau.
A maskless lithography system is described having a programmable mask to allow performing several lithographic steps using the same mask.
Ce système de lithographie sans masque comprend un masque programmable qui permet d'exécuter plusieurs étapes lithographiques en utilisant le même masque.