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material sputtering
Vertaling van "material sputtering" in Frans
pulvérisation de matériau
de pulvérisation cathodique en matériau
pulvérisation cathodique de matériau
As a consequence, a ferromagnetic material sputtering target is obtained wherein it is possible to prevent particle generation during sputtering and to stably discharge in a magnetron sputter device by improving the leakage magnetic flux.
On obtient alors une cible de pulvérisation de matériau ferromagnétique pour laquelle il est possible d'empêcher la production de particules pendant la pulvérisation et de procéder à une évacuation de façon stable dans un dispositif de pulvérisation magnétron en améliorant le flux magnétique de fuite.
This oxide-containing magnetic material sputtering target is characterized in that the average grain diameter of said oxides is 400nm or less.
La présente invention se rapporte à une cible de pulvérisation de matériau magnétique qui contient des oxydes, ladite cible de pulvérisation étant caractérisée en ce que le diamètre de grain moyen desdits oxydes est égal ou inférieur à 400 nm.
Provided is a tungsten sintered material sputtering target having a phosphorus content of 1 ppm by weight or less, with the remainder being tungsten and unavoidable impurities.
L'invention concerne une cible de pulvérisation de matériau fritté de tungstène présentant une teneur en phosphore d'1 ppm en poids ou moins, le reste étant constitué de tungstène et des inévitables impuretés.
TUNGSTEN SINTERED MATERIAL SPUTTERING TARGET
CIBLE DE PULVÉRISATION DE MATÉRIAU FRITTÉ DE TUNGSTÈNE
Disclosed is a magnetic material sputtering target which contains B and is obtained by a melting/casting method.
L'invention concerne une cible de pulvérisation cathodique de matériau magnétique qui contient du B et qui est obtenue par un procédé de fusion/coulée.
inductively coupled plasma sputter chamber with conductive material sputtering capabilities
chambre de pulvérisation plasmique à couplage inductif ayant des capacités de pulvérisation de matières conductrices
nonmagnetic material particle dispersed ferromagnetic material sputtering target
cible de pulvérisation cathodique en matériau ferromagnétique contenant des particules dispersées de matériau non magnétique
this invention provides a nonmagnetic material particle dispersed ferromagnetic material sputtering target comprising a material comprising nonmagnetic material particles dispersed in a ferromagnetic material
la présente invention concerne une cible de pulvérisation cathodique en matériau ferromagnétique contenant des particules dispersées de matériau non magnétique, qui comprend un matériau renfermant des particules de matériau non magnétique dispersées dans un matériau ferromagnétique
The present invention addresses the problem of providing a ferromagnetic material sputtering target that maintains a high density, uniformly miniaturizes oxide phase particles, and contains a chrome oxide having little generation of particles.
Cette cible de pulvérisation ferromagnétique permet de maintenir une densité élevée, présente une phase oxyde à micro-particules uniformes et contient un oxyde de chrome générant peu de particules.
and the nonmagnetic material particle dispersed ferromagnetic material sputtering target is particularly best suited for use as a magnetic recording layer.
et ladite cible est le mieux adaptée pour être utilisée tout particulièrement en tant que couche d'enregistrement magnétique.
Disclosed is a ferromagnetic material sputtering target which is a sintered body sputtering target that is composed of a metal mainly composed of Co and non-metallic inorganic material particles.
L'invention concerne une cible de pulvérisation cathodique en matériau ferromagnétique qui est une cible à corps fritté composée d'un métal principalement constitué de cobalt et de particules de matière inorganique non métallique.
The magnetic material sputtering target is characterized by having a B content of 10-50 at% (inclusive) with the balance made up of one or more elements selected from among Co, Fe and Ni.
La cible de pulvérisation cathodique de matériau magnétique est caractérisée en ce qu'elle possède une teneur en B de 10 à 50 % atomiques (inclus), le complément étant constitué d'au moins un des éléments suivants : Co, Fe et Ni.
FERROMAGNETIC MATERIAL SPUTTERING TARGET CONTAINING CHROME OXIDE
CIBLE DE PULVÉRISATION FERROMAGNÉTIQUE CONTENANT UN OXYDE DE CHROME
Synoniemen voor material sputtering in het Engels
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Suggesties
Resultaten: 16. Exact: 16. Verstreken tijd: 42 ms.
