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A semiconductor structure is provided that includes a spacer directly abutting a topographic edge of at least one patterned material layer.
La présente invention concerne une structure semi-conductrice qui comprend un espaceur directement en contact contre un bord topographique d'au moins une couche de matériau structuré.
Then the solid condensate layer and regions of the material layer that were deposited on the solid condensate layer are removed, leaving a patterned material layer on the structure.
Ensuite, la couche de condensat solide et des zones de la couche de matière qui ont été déposées sur la couche de condensat solide sont enlevées, laissant ainsi une couche de matière à motif sur la structure.
and removing portions of the material layer at the spaces formed in the resist layer, thereby forming a patterned material layer.
et à éliminer des parties de la couche de matériau au niveau des espaces formés dans la couche de résine pour former une couche de matériau à motifs.
a method of forming a patterned material layer on a substrate is also disclosed, wherein the method includes applying the fluorosulfonamide-containing resist composition to the substrate to form a resist layer on the material layer
l'invention concerne également un procédé permettant de former une couche de matériau à motifs sur un substrat, consistant à appliquer la composition de résine à base de fluorosulfonamide sur le substrat pour former une couche de résine sur la couche de matériau
POLYMER HAVING ANTIREFLECTIVE PROPERTIES, HARDMASK COMPOSITION INCLUDING THE SAME, AND PROCESS FOR FORMING A PATTERNED MATERIAL LAYER
POLYMÈRE DOTÉ DE PROPRIÉTÉS ANTIREFLET, COMPOSITION DE MASQUE DUR COMPRENANT CE POLYMÈRE ET PROCÉDÉ DE FORMATION D'UNE COUCHE DE MATIÈRE À MOTIFS
HIGH ETCH RESISTANT HARDMASK COMPOSITION HAVING ANTIREFLECTIVE PROPERTIES, METHOD FOR FORMING PATTERNED MATERIAL LAYER USING THE HARDMASK COMPOSITION AND SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT DEVICE PRODUCED USING THE METHOD
COMPOSITION DE MASQUE DUR RÉSISTANT À LA GRAVURE ET PRÉSENTANT DES PROPRIÉTÉS ANTI-REFLET, PROCÉDÉ DE FORMATION D'UNE COUCHE DE MATÉRIAU À MOTIF AU MOYEN DE LA COMPOSITION DE MASQUE DUR ET APPAREIL À CIRCUIT INTÉGRÉ À SEMICONDUCTEURS FABRIQUÉ AU MOYE
HIGH ETCH RESISTANT HARDMASK COMPOSITION HAVING ANTIREFLECTIVE PROPERTIES, METHOD FOR FORMING PATTERNED MATERIAL LAYER USING THE HARDMASK COMPOSITION AND SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT DEVICE PRODUCED USING THE METHOD
COMPOSITION DE MASQUE DUR RÉSISTANT À LA GRAVURE ET PRÉSENTANT DES PROPRIÉTÉS ANTI-REFLET, PROCÉDÉ DE FORMATION D'UNE COUCHE DE MATÉRIAU À MOTIF AU MOYEN DE LA COMPOSITION DE MASQUE DUR ET APPAREIL À CIRCUIT INTÉGRÉ À SEMICONDUCTEURS FABRIQUÉ AU MOYEN DE
A planarization processing method comprises: patterning a material layer (1012); and planarizing the patterned material layer by using sputtering.
La présente invention concerne un procédé de traitement de planarisation qui comprend : la formation de motif sur une couche de matériau (1012); et la planarisation de la couche de matériau, qui a subi une formation de motif, en utilisant une pulvérisation.
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Synoniemen voor patterned material layer in het Engels