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This method includes depositing a photoimageable material to form a first photoimageable layer on a piezoelectric layer; patterning the first photoimageable layer to form an aperture; and disposing a first conductive layer on the first photoimageable layer.
Ce procédé inclut le dépôt d'un matériau photosensible pour former une première couche photosensible sur une couche piézoélectrique ; le modelage de la première couche photosensible pour former une ouverture, et le dépôt d'une première couche conductrice sur la première couche photosensible.
a step of forming a core pattern by patterning the first and second core layers
and patterning the first electrode material to form a top electrode of a second capacitor, to form an electrode of the first capacitor, and to define a resistor.
et structuration de la première matière d'électrode de manière à former une électrode supérieure d'un second condensateur de manière à former une électrode du premier condensateur, et à définir une résistance.
the process further comprises patterning the first masking layer before applying the second masking layer to provide the second portion of the substrate for etching and etching the first masking layer to expose the second portion of the substrate
ce procédé consiste ensuite à faire des motifs de la première couche avant d'appliquer la seconde couche pour obtenir la seconde partie du substrat à graver et graver la première couche pour exposer la seconde partie du substrat
The method further includes patterning the first portion with a cut mask to form a first sub-portion (e.g., a contact) and a second sub-portion.
Le procédé comprend en outre la réalisation de motifs de la première partie à l'aide d'une masque de découpe pour former une première sous-partie (par exemple, un contact) et une seconde sous-partie.
additionally, the method includes patterning the first molybdenum layer and the second molybdenum layer to form a lower electrode layer and forming a layer of photovoltaic material overlying the lower electrode layer
de plus, le procédé consiste à tracer des motifs sur la première couche de molybdène et la deuxième couche de molybdène pour former une couche d'électrode inférieure et à former une couche de matériau photovoltaïque superposée à la couche d'électrode inférieure
once the buried etch stop layer has been formed, the process for fabricating stepped structures starts with patterning the first layer and etching it to reveal a portion of the recessed area of the etch stop
une fois la couche d'arrêt de gravure enfouie formée, le procédé de fabrication des structures en gradin commence par la formation de motifs sur la première couche et sa gravure afin de dévoiler une partie de la zone évidée de l'arrêt de gravure
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Synoniemen voor patterning the first in het Engels