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Further processing of the substrate is performed after the plasma cleaning process.
Après le processus de nettoyage par plasma, le substrat est soumis à des traitements additionnels.
There is provided a screen printing method including a plasma cleaning process.
L'invention concerne un procédé d'impression sérigraphique qui comprend un traitement de nettoyage au plasma.
The addition of a reactive gas process to an inert gas feed enhances the plasma cleaning process by breaking chemical bonds which form between surfaces particles and a substrate, consequently improving cleaning efficiency.
L'addition d'un processus de gaz inerte à une charge de gaz inerte augmente le processus de nettoyage du plasma en brisant les liaisons chimiques formées entre les particules de surface et un substrat, améliorant, par conséquent, l'efficacité du nettoyage.
The substrate having the film thereon is then transferred from the deposition chamber into a treatment chamber and a plasma cleaning process is performed on the substrate in the treatment chamber.
Le procédé consiste à transférer ensuite le substrat revêtu de la couche de la chambre de dépôt à une chambre de traitement, et à le soumettre à un processus de nettoyage par plasma dans la chambre de traitement.
besides, the chamber is set to perform a follow-up process after a remote plasma cleaning process by being clicked once, thereby reducing non-uniformity in thickness of each wafer and minimizing the generation of particles.
en outre, la chambre est conçue pour effectuer un processus de suivi après un processus de nettoyage plasmatique à distance à l'aide d'un seul clic, diminuant ainsi la non uniformité d'épaisseur de chaque tranche et réduisant au maximum la génération de particules.
one embodiment of the present invention provides a system that contains a cleaning chamber that is adapted to expose a surface of substrate to a plasma cleaning process prior to forming an epitaxial layer thereon
un mode de réalisation de la présente invention propose un système qui contient une chambre de nettoyage qui est conçue pour exposer une surface du substrat à un procédé de nettoyage au plasma avant d'y former une couche épitaxiale
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