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the etch-stop layer
Vertaling van "the etch-stop layer" in Frans
la couche d'arrêt de gravure
la couche d'arrêt d'attaque
The silicon device wafer, the etch-stop layer and the device layer are boron doped.
La plaquette de composants en silicium, la couche d'arrêt de gravure et la couche de composants sont dopées au bore.
the etch-stop layer may optionally be processed to remove all or a part of the layer
la couche d'arrêt de gravure peut éventuellement être traitée afin d'être entièrement ou partiellement enlevée
is applied to a monocrystalline semiconductor substrate, a polycrystalline base connection layer is produced on the etch-stop layer
sur un substrat semi-conducteur monocristallin, à produire une couche de connexion de base polycristalline sur cette couche d'arrêt de gravure
In the single damascene process using trench pattern, a trench is etched through the capping layer, the low-k dielectric layer and the etch-stop layer to reach the substrate surface.
Dans le processus de damasquinage simple utilisant le motif de tranchée, une tranchée est gravée à travers la couche de couverture, la couche à faible constante diélectrique k et la couche d'arrêt de gravure pour atteindre la surface du substrat.
Lastly, the via is again non-selectively etched through the etch-stop layer and the low dielectric constant layer such that the etch terminates at the conductive layer.
Enfin, la traversée est à nouveau attaquée de manière non sélective, à travers la couche d'arrêt d'attaque et la couche à constante diélectrique faible, de sorte que l'attaque s'arrête au niveau de la couche conductrice.
a ratio of boron to carbon in the etch-stop layer is in a range of about 0.5 to 15
un rapport de bore sur carbone dans la couche d'arrêt de gravure est d'environ 0,5: 1,5.
the photoresist mask is patterned to create an opening and the portion of the first hard mask layer exposed in the opening is etched down to the etch-stop layer
le masque de photorésine comporte un motif pour créer une ouverture, et la partie de la première couche de masque dur exposée dans l'ouverture est gravée jusqu'à la couche d'arrêt de gravure
the wafer of the first substrate is attached to an aluminum oxide temporary substrate, and the etchable layer of the first substrate is etched away down to the etch-stop layer to leave a primary device structure
cette tranche est fixée à un substrat temporaire en oxyde d'aluminium, et la couche pouvant être gravée du premier substrat est enlevée par gravure jusqu'à la couche d'arrêt de gravure de façon à laisser une structure de dispositif primaire
the first substrate has a silicon etchable layer, a silicon dioxide etch-stop layer overlying the etchable layer, and a single-crystal wafer overlying the etch-stop layer
le premier substrat comprend une couche de silicium pouvant être gravée, une couche d'arrêt de gravure en dioxyde de silicium recouvrant la couche pouvant être gravée, et une tranche monocristalline recouvrant la couche d'arrêt de gravure
surface having an etch-stop layer thereon, a low-k dielectric layer on the etch-stop layer, and a dielectric capping layer on the low-k dielectric layer
dotée d'une couche d'arrêt de gravure sur celle-ci, d'une couche à faible constante diélectrique k sur la couche d'arrêt de gravure, et d'une couche de couverture diélectrique sur la couche à faible constante diélectrique k
a first section of the inertia mass and beam members are formed by etching a u-shaped channel and a bar-shaped channel in the first wafer section of the sandwiched layer to the etch-stop layer
une première section de la masse intertielle et des éléments de faisceau sont formés par gravure d'un canal en u et d'un canal en forme de barre dans la première section de la plaquette de la couche en sandwich, jusqu'à la couche d'arrêt d'attaque
while using the etch-stop layer
en utilisant la couche d'arrêt de gravure
By etching the second layer (1c) and the etch-stop layer (1b), recesses (9) are formed in the first mask layer (1).
Des creux (9) sont formés dans la première couche de masque (1) par gravure de la seconde couche (1c) et de la couche d'arrêt de gravure (1b).
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